用于故障分析與敏感材料研究的高真空原子力顯微鏡
在高真空環(huán)境進(jìn)行納米測(cè)量可顯著提高數(shù)據(jù)的靈敏度和分辨率,并增強(qiáng)材料分析能力。 因?yàn)楦哒婵諕呙璀h(huán)境相比氮?dú)釴2或干燥環(huán)境條件更具有精確性和穩(wěn)定的重復(fù)性的數(shù)據(jù),用戶(hù)可以在半導(dǎo)體材料和故障分析等應(yīng)用中測(cè)量各種摻雜濃度和反饋信號(hào)的不同響應(yīng)。
在高真空條件下執(zhí)行掃描擴(kuò)散電阻顯微鏡測(cè)量可減少所需的針尖-樣本相互作用力,從而大幅度降低對(duì)樣本和針尖的損傷。如此可延長(zhǎng)各針尖的使用壽命,使掃描更加低成本和便捷,并通過(guò)提高空間分辨率和信噪比得到更為精確的結(jié)果。因此,利用NX-Hivac進(jìn)行的高真空掃描擴(kuò)散電阻顯微術(shù)測(cè)量可謂是故障分析工程師增加其吞吐量、減少成本和提高準(zhǔn)確性的明智選擇。
Park Hivac 管理器
NX-Hivac 真空自動(dòng)控制
Hivac 管理器通過(guò)一鍵單擊在邏輯和視覺(jué)上控制真空條件抽氣和排氣過(guò)程來(lái)實(shí)現(xiàn)高真空。各個(gè)過(guò)程通過(guò)顏色和圖示變化得到直觀監(jiān)控,一鍵單擊后您即可無(wú)需操心真空操作順序。更快速、更簡(jiǎn)便的真空控制軟件使原子力顯微鏡的使用更便捷更高效。
高級(jí)自動(dòng)化特點(diǎn)
NX-Hivac具有大量功能從而能夠減少用戶(hù)輸入。換言之,您可以更快速地掃描,提高實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)量。
配備電控載物臺(tái)的StepScan 自動(dòng)化掃描
StepScan允許用戶(hù)能夠?qū)ζ骷M(jìn)行編程從實(shí)現(xiàn)而快速便捷地多區(qū)域成像。NX-Hivac讓您只需五步即可完成樣本掃描:掃描、提升懸臂、移動(dòng)電動(dòng)平臺(tái)至用戶(hù)定義坐標(biāo)區(qū)域、進(jìn)針及重復(fù)掃描。如此可極大地提高生產(chǎn)率,減少用戶(hù)輸入。
電動(dòng)激光對(duì)準(zhǔn)
Park電動(dòng)激光對(duì)準(zhǔn)使用戶(hù)無(wú)需輸入即可無(wú)縫銜接自動(dòng)化測(cè)量例程。憑借著我們的預(yù)準(zhǔn)直懸臂架,在更換探針時(shí)激光已對(duì)準(zhǔn)懸臂。只需要調(diào)整定位旋鈕,便可在X和Y軸上任意定位激光光點(diǎn),達(dá)到位置。
提高精度和生產(chǎn)率
NX-Hivac即是精準(zhǔn)的高性能原子力顯微鏡,同時(shí)也是用于故障分析的方便的原子力顯微鏡之一。Park NX-Hivac幫您可以提高自己的生產(chǎn)效率,并確保取得靠譜的結(jié)果。
閉環(huán)XY和Z軸掃描儀
利用兩個(gè)獨(dú)立的閉環(huán)XY和Z軸撓曲掃描儀,您可以確信掃描的高精準(zhǔn)度。NX-Hivac提供低殘余彎曲的平面和正交XY軸掃描,使得整個(gè)掃描范圍內(nèi)的離面運(yùn)動(dòng)距離低于1 nm。此外,NX-Hivac的特色還有非線(xiàn)性為低于0.5%的15 μm掃描范圍的高速Z軸掃描儀,無(wú)需進(jìn)行軟件后期處理即可獲得精準(zhǔn)的二維和三位測(cè)量。
低噪聲XYZ軸位置傳感器
NX-Hivac具有Park原子力顯微鏡行業(yè)的低噪聲Z軸探測(cè)器功能,可準(zhǔn)確測(cè)量樣本形貌,同時(shí)低噪聲XY軸閉環(huán)掃描將前后掃描間隙降低至掃描范圍的0.15%。
24位數(shù)字電子控制器
NX-Hivac的一大特點(diǎn)是NX系列電子控制器可實(shí)現(xiàn)時(shí)間浪費(fèi)最小化、精度。我們的控制器為全數(shù)字、24位高速器件,用戶(hù)能夠利用其執(zhí)行一系列掃描,包括我們的真正非接觸(True Non-Contact)模式。控制器具有低噪聲設(shè)計(jì)和高速處理部件,是精密電壓和電流測(cè)量及納米級(jí)成像的之選。嵌入式電子產(chǎn)品同時(shí)具有數(shù)字信號(hào)處理特點(diǎn),用戶(hù)可輕松地分析測(cè)量值和成像。
技術(shù)指標(biāo)
掃描器 | XY掃描器: 50 μm × 50 μm (100 μm x 100 μm 可選) 掃描器: 15 μm |
視覺(jué) | 軸向直接觀察樣品表面和懸臂 視野:840μm×630μm(帶10倍物鏡) CCD:500萬(wàn)像素 |
樣品臺(tái) | 樣品尺寸:使用單個(gè)樣品時(shí)為100 mm x 100 mm的開(kāi)放空間,使用多個(gè)樣品時(shí)為10 mm x 10 mm的開(kāi)放空間,厚度為20 mm XY樣品臺(tái)行程范圍: 22 mm x 22 mm Z平臺(tái)行程范圍: 24 mm 聚焦臺(tái)行程范圍: 11 mm |
高真空 | 真空等級(jí): 通常小于 1 x 10-5 托 泵速: 使用渦輪和干式泵在約5分鐘內(nèi)達(dá)到 10^-5托 |
控制器 | 信號(hào)處理: ADC: 18通道 X,Y和Z掃描器位置傳感器的24位ADC DAC: 17 通道 用于X,Y和Z掃描器定位的20位ADC 綜合功能: 4通道靈活的數(shù)字鎖定放大器彈簧常數(shù)校準(zhǔn)(熱控制法)數(shù)字Q控制 |
軟件 | Park SmartScan™: AFM系統(tǒng)控制和數(shù)據(jù)采集軟件 自動(dòng)模式,可快速設(shè)置和輕松成像 手動(dòng)模式,用于高級(jí)使用和更精細(xì)的掃描控制 XEI: AFM數(shù)據(jù)分析軟件 獨(dú)立設(shè)計(jì)—可以安裝和分析AFM以外的數(shù)據(jù) 能夠生成采集數(shù)據(jù)的3D渲染 Hivac Manager 全自動(dòng)真空控制軟件 |
選項(xiàng)/模式 | 非接觸 接觸 輕巧 磁學(xué)特性 磁力顯微鏡 (MFM) 介電/壓電特性 壓電響應(yīng)力顯微鏡(PFM) 高壓PFM 壓電響應(yīng)譜 機(jī)械性能 PinPoint納米力學(xué) 力調(diào)制顯微鏡(FMM) 納米壓痕 納米刻蝕 高壓納米刻蝕 納米操縱 側(cè)向力顯微鏡(LFM) 力距(F / d)譜 力體積成像 電學(xué)特性 導(dǎo)電原子力顯微鏡(C-AFM) I / V譜 開(kāi)爾文探針力顯微鏡(KPFM) 高壓KPFM 掃描電容顯微鏡(SCM) 掃描擴(kuò)展電阻顯微鏡(SSRM) 掃描隧道顯微鏡(STM) 靜電力顯微鏡(EFM) 熱性能 掃描熱顯微鏡(SThM) 化學(xué)特性 化學(xué)力顯微鏡,帶功能化針尖 |
配件 | 溫控臺(tái) 傾斜樣品載臺(tái) 卡入式樣品載臺(tái) |