開啟微納3D精密制造之門
BMF nanoArch® S140 系統(tǒng)簡介
nanoArch S140是可以實現(xiàn)實現(xiàn)高精度大幅面微尺度3D打印的設(shè)備系統(tǒng),它采用的是面投影微立體光刻(PμSL:Projection Micro Stereolithography)技術(shù)。該技術(shù)使用高精密紫外光刻投影系統(tǒng),將需打印圖案投影到樹脂槽液面,在液面固化樹脂并快速微立體成型,從數(shù)字模型直接加工三維復(fù)雜的模型和樣件,完成樣品的制作。該技術(shù)具備成型效率高、打印精度高等突出優(yōu)勢,被認為是目前前景的微納加工技術(shù)之一。
科研級3D打印系統(tǒng)
nanoArch® S140 系統(tǒng)性能
光源 UV-LED(405nm) | 打印材料 光敏樹脂 | 光學(xué)精度 10μm |
XY打印精度 10~40μm | 打印層厚 10~40μm | 打印樣品尺寸 Mode Single:19.2mm*10.8mm*45mm |
樣品高度 10mm in typical; | 打印速度 288~1152mm3/h | 打印文件格式 STL |
設(shè)備功率 3000W | 系統(tǒng)外形尺寸 主機:650(L)*650(W)*750mm(H) | 重量 300kg |
打印材料
通用型
丙烯酸類光敏樹脂,比如HDDA,PEGDA等。
個性化
405nm固化波段的光敏樹脂材料 ,支持透明樹脂,柔性樹脂,硬性樹脂,納米顆粒摻雜復(fù)合樹脂,4D打印樹脂,生物醫(yī)療樹脂等,需適配不同的工藝和模型,不保證打印性能
系統(tǒng)特點
(XY打印精度高達10μm)
(10μm~40μm的打印層厚)