開啟微納3D精密制造之門
BMF nanoArch® S130 系統(tǒng)簡介
nanoArch S130是可以實現(xiàn)實現(xiàn)高精度大幅面微尺度3D打印的設備系統(tǒng),它采用的是面投影微立體光刻(PμSL:Projection Micro Stereolithography)技術(shù)。該技術(shù)使用高精密紫外光刻投影系統(tǒng),將需打印圖案投影到樹脂槽液面,在液面固化樹脂并快速微立體成型,從數(shù)字模型直接加工三維復雜的模型和樣件,完成樣品的制作。該技術(shù)具備成型效率高、打印精度高等突出優(yōu)勢,被認為是目前前景的微納加工技術(shù)之一。
科研級3D打印系統(tǒng)
nanoArch® S130 系統(tǒng)性能
光源 UV-LED(405nm) | 打印材料 光敏樹脂 | 光學精度 2μm |
XY打印精度 2~10μm | 打印層厚 5~20μm | 打印樣品尺寸 Mode Single:3.84*2.16mm*10mm |
打印文件格式 STL | 系統(tǒng)外形尺寸 1720mm(L)×750mm(W)×1820(H)mm | 重量 650kg |
電氣要求 200~240V AC,50/60HZ,3KW | 其他要求 部分工藝可選配加速模塊及涂層模塊 | 設備功率 3000W |
打印材料
通用型
丙烯酸類光敏樹脂,比如HDDA,PEGDA等。
個性化
高強度硬性樹脂、納米顆粒摻雜樹脂、生物科研樹脂等。
系統(tǒng)特點
(XY打印精度高達2μm)
(5μm~20μm的打印層厚效果對比)