產(chǎn)品介紹
概要
實(shí)時的干涉測量設(shè)備,提供蝕刻/鍍膜制程中高精度的膜厚及蝕刻溝深度檢測。單色光打在樣品表面,由于膜厚和高度變化導(dǎo)致不同的光路長度時,使用干涉測量法。通過循環(huán),系統(tǒng)能在監(jiān)控區(qū)使用實(shí)時監(jiān)測的方法計(jì)算蝕刻和鍍膜的速度,在規(guī)定的膜厚和槽深來進(jìn)行終點(diǎn)檢測?;谶@個相對簡單的理論,系統(tǒng)不但非常穩(wěn)定,并且可用于復(fù)雜的多層薄膜。
特征
- 兩種類型的激光器,可兼容大范圍的薄膜,包括SiN, SiO2, GaAs, InP, AlGaAs, and GaN.
- 生產(chǎn)線使用內(nèi)置軟件。
- 終點(diǎn)檢測法的靈活應(yīng)用。
- 的加工特點(diǎn)。