EPIC離子/分子分析質(zhì)譜儀(EPIC Systems with Pulse Ion Counting and Pole Bias Control)是帶脈沖離子計數(shù)和四級桿偏壓控制的三級過濾四極質(zhì)譜儀，用于高精密科學(xué)分析，過程研究以及中性粒子、自由基、正負離子的UHV分析。
EPIC離子/分子分析質(zhì)譜儀可增加能量過濾器、Bessel Box能量分析器或45°扇形能量分析器，升級至Hiden的Plasma/ SIMS系列EQP，EQS，PSM 和Maxim。
·6、9、12 mm 直徑的四極桿可選
·±100 eV離子能量分布，1000 eV可選
·離子源控制，以實現(xiàn)軟離子化及表觀電勢質(zhì)譜
·脈沖離子計數(shù)器，連續(xù)7個數(shù)量級動態(tài)范圍，Faraday 選項為5x1010
·一級過濾處增加射頻，增強抗污染物能力
·信號選通分辨率0.1μs，用于能量、質(zhì)量分布隨時間變化或TOF研究中
·程序升溫脫附時，溫度數(shù)值同步顯示
·標(biāo)配UHV罩，液氮冷卻罩可選
·MASsoft專業(yè)軟件控制
·可升級至Plasma/ SIMS 配置
·質(zhì)量數(shù)范圍： 1～300 amu（標(biāo)準配置）
500、1000、2500 amu（選配）
·測量速度： 500 points/s
·分辨率： 0.1% Valley、1% Valley
·動態(tài)范圍： 107
·檢測分壓： 5 X 10-15 mbar ，1X10-16 mbar
·離子能量： ±100eV（標(biāo)準配置）
±1000eV（選配）
·信號選通分辨率：0.1µs
·穩(wěn)定性： 24h以上，峰高變化小于±0.5%
3F Series Mass Spectrometers (0.68MB)
Mass Spectrometers for Residual Gas Analysis - RGA (1.35 MB)
