Sigma 500 場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡
用于高品質(zhì)成像與高級(jí)分析的場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡
靈活的探測(cè)，4步工作流程，高級(jí)的分析性能
將高級(jí)的分析性能與場(chǎng)發(fā)射掃描技術(shù)相結(jié)合，利用成熟的 Gemini 電子光學(xué)元件。多種探測(cè)器可選：用于顆粒、表面或者納米結(jié)構(gòu)成像。Sigma 半自動(dòng)的4步工作流程節(jié)省大量的時(shí)間：設(shè)置成像與分析步驟，提高效率。 Sigma 300 性價(jià)比高。Sigma 500 裝配有的背散射幾何探測(cè)器，可快速方便地實(shí)現(xiàn)基礎(chǔ)分析。任何時(shí)間，任何樣品均可獲得精準(zhǔn)可重復(fù)的分析結(jié)果。
用于清晰成像的靈活探測(cè)
- 利用探測(cè)術(shù)為您的需求定制 Sigma，表征所有樣品。
- 利用 in-lens 雙探測(cè)器獲取形貌和成份信息。
- 利用新一代的二次探測(cè)器，獲取高達(dá)50%的信號(hào)圖像。在可變壓力模式下利用 Sigma 創(chuàng)新的 C2D 和 可變壓力探測(cè)器，在低真空環(huán)境下獲取高達(dá)85%對(duì)比度的銳利的圖像。
自動(dòng)化加速工作流程
- 4步工作流程讓您控制 Sigma 的所有功能。在多用戶環(huán)境中，從快速成像和節(jié)省培訓(xùn)首先，先對(duì)樣品進(jìn)行導(dǎo)航，然后設(shè)置成像條件。
- 首先，先對(duì)樣品進(jìn)行導(dǎo)航，然后設(shè)置成像條件。
- 接下來(lái)對(duì)樣品感興趣的區(qū)域進(jìn)行優(yōu)化并自動(dòng)采集圖像。最后使用工作流程的步，將結(jié)果可視化。
高級(jí)分析型顯微鏡
- 將掃描電子顯微鏡與基本分析相結(jié)合：Sigma 的背散射幾何探測(cè)器大大提升了分析性能，特別是對(duì)電子束敏感的樣品。
- 在一半的檢測(cè)束流和兩倍的速度條件下獲取分析數(shù)據(jù)。
- 獲益于8.5 mm 短的分析工作距離和35°夾角，獲取完整且無(wú)陰影的分析結(jié)果。
基于成熟的 Gemini 技術(shù)
- Gemini 鏡頭的設(shè)計(jì)結(jié)合考慮了電場(chǎng)與磁場(chǎng)對(duì)光學(xué)性能的影響，并將場(chǎng)對(duì)樣品的影響降至更低。這使得即使對(duì)磁性樣品成像也能獲得出色的效果。
- Gemini in-lens 的探測(cè)確保了信號(hào)探測(cè)的效率，通過(guò)二次檢測(cè)(SE)和背散射(BSE)元件同時(shí)減少成像時(shí)間。
- Gemini 電子束加速器技術(shù)確保了小的探測(cè)器尺寸和高的信噪比。
用于清晰成像的靈活探測(cè)
- 利用新的探測(cè)技術(shù)表征所有的樣品。
- 在高真空模式下利用創(chuàng)新的 ETSE 和 in-lens 探測(cè)器獲取形貌和高分辨率的信息。
- 在可變壓力模式下利用可變壓力二次電子和 C2D 探測(cè)器獲取銳利的圖像。
- 利用 aSTEM 探測(cè)器生成高分率透射圖像。
- 利用 BSD 或者 YAG 探測(cè)器進(jìn)行成份分析。
配件
SmartEDX
為您帶來(lái)一體化能譜分析解決方案
如果單采用SEM成像技術(shù)無(wú)法全面了解部件或樣品，研究人員就需要在SEM中采用能譜儀（EDS）來(lái)進(jìn)行顯微分析。通過(guò)針對(duì)低電壓應(yīng)用而優(yōu)化的能譜解決方案，您可以獲得元素化學(xué)成分的空間分布信息。得益于：
- 優(yōu)化了常規(guī)的顯微分析應(yīng)用，并且由于氮化硅窗口優(yōu)秀的透過(guò)率，可以探測(cè)輕元素的低能X射線。
- 工作流程引導(dǎo)的圖形用戶界面極大地改善了易用性，以及多用戶環(huán)境中的重復(fù)性。
- 完整的服務(wù)和系統(tǒng)支持，由蔡司工程師為您的安裝、預(yù)防性維護(hù)及保修提供一站式服務(wù)。
