●致力于電真空、核級裝備、人工晶體材料及薄膜制備設(shè)備的技術(shù)提升,在服務(wù)領(lǐng)域深耕細(xì)作,具有較深的技術(shù)沉積。
●成都真空設(shè)備廠家 surpass大口徑等離子刻蝕機(jī) 半導(dǎo)體刻蝕 離子束刻蝕 反應(yīng)離子刻蝕 可定制
●本設(shè)備主要用于半導(dǎo)體刻蝕,能夠兼容離子束刻蝕和反應(yīng)離子刻蝕功能,使用氣態(tài)化學(xué)刻蝕劑與材料產(chǎn)生反應(yīng)來進(jìn)行刻蝕,并形成可從襯底上移除的揮發(fā)性副產(chǎn)品,通過真空系統(tǒng)排出,特別適合刻蝕熔融石英、硅、光刻膠、聚酷亞胺( PI) 薄膜、金屬等材料。
●說明:根據(jù)用戶要求,公司愿與客戶聯(lián)合研發(fā),共享知識產(chǎn)權(quán),公司致力于工藝與設(shè)備匹配。