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小型真空電阻蒸發(fā)鍍膜機(jī)

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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱沈陽(yáng)好智多新材料制備技術(shù)有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2023/11/10 12:11:57
  • 訪問(wèn)次數(shù)147
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沈陽(yáng)好智多新材料制備技術(shù)有限公司成立于2007年,是以新材料制備技術(shù)為導(dǎo)向,以高新真空技術(shù)設(shè)備開(kāi)發(fā)研制為主業(yè)的科技創(chuàng)新型股份制企業(yè),公司現(xiàn)有員工50人,其中技術(shù)開(kāi)發(fā)人員25人,生產(chǎn)制造人員15人,公司本科以上學(xué)歷人員30人,占比60%。公司位于沈陽(yáng)市大東區(qū)聯(lián)合路科技園,距離沈陽(yáng)北站8公里,沈陽(yáng)桃仙機(jī)場(chǎng)20公里,交通十分便利。 公司自成立之初即不斷追求技術(shù)及產(chǎn)品的創(chuàng)新,經(jīng)過(guò)近10年的發(fā)展,公司開(kāi)發(fā)出系列化新材料研制的關(guān)鍵技術(shù)設(shè)備,在材料提純與合金化領(lǐng)域有VIM系列真空感應(yīng)熔煉爐、ISM系列冷坩堝懸浮熔煉爐、VAM系列非自耗電弧爐、VAR系列自耗電弧重熔爐、EBCHR系列電子束熔煉爐、PACHR系列離子束熔煉爐;在晶體合成和非晶材料制備領(lǐng)域有LMC/HRS系列真空定向凝固單晶/多晶鑄造爐,ZM-LMC/HRS區(qū)熔晶體生長(zhǎng)爐,Tri-VAM三電極非自耗熔煉晶體生長(zhǎng)爐,VIC系列化合物晶體生長(zhǎng)爐、VMQ系列多功能真空非晶甩帶機(jī);在粉體制備領(lǐng)域有EAP系列/HPP系列納米粉生產(chǎn)線及粉體球化設(shè)備,EIGA/VIGA系列真空霧化制粉設(shè)備,在粉末燒結(jié)領(lǐng)域有SPS-8000A等離子脈沖燒結(jié)爐,HPS系列高真空高溫?zé)釅簾Y(jié)爐,SHS系列自蔓延熱壓燒結(jié)爐;在高溫?zé)崽幚眍I(lǐng)域有VHF系列多功能真空熱處理爐、UHT系列超高溫真空爐、VLQ系列真空快淬爐、EPM系列強(qiáng)磁場(chǎng)高溫爐;在真空鍍膜領(lǐng)域有PVD/EB/PECVD/MOCVD/OLED/CIGS等多種真空鍍膜設(shè)備及連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線;其它設(shè)備包括VEB系列真空手套箱、粉體自動(dòng)加料機(jī)、潤(rùn)濕角測(cè)試設(shè)備,高溫黏度檢測(cè)儀,熱電轉(zhuǎn)換性能測(cè)試儀,堆外模擬LOCA系統(tǒng)等根據(jù)客戶要求定制的各種非標(biāo)設(shè)備。 公司擁有完整的組織結(jié)構(gòu)和完善的質(zhì)量管理體系;優(yōu)秀的企業(yè)管理團(tuán)隊(duì)以追求更高的產(chǎn)品質(zhì)量為目標(biāo),以設(shè)計(jì)制造出安全、簡(jiǎn)潔、實(shí)用的設(shè)備為宗旨,不斷為大專院校及科研院所提供專業(yè)化科研設(shè)備,為企業(yè)提供穩(wěn)定可靠的新材料試制和生產(chǎn)設(shè)備。到目前為止我公司已向各類客戶提供優(yōu)質(zhì)設(shè)備500多臺(tái)套,其中真空氣霧化制粉設(shè)備30余臺(tái)套,納米粉生產(chǎn)線40余臺(tái)套,電弧爐甩帶機(jī)50余臺(tái)套,定向凝固系統(tǒng)30余臺(tái)套,高溫?zé)釅籂t30余臺(tái)套,真空鍍膜系統(tǒng)50余臺(tái)套,超高溫真空爐30余臺(tái)套,多功能聯(lián)合實(shí)驗(yàn)爐組30余臺(tái)套,真空感應(yīng)熔煉及冷坩堝凝殼爐50余臺(tái)套,所有產(chǎn)品均得到客戶的認(rèn)可和好評(píng)。
設(shè)備用途:利用電阻加熱產(chǎn)生熱能,將待成膜的物質(zhì)置于真空中進(jìn)行蒸發(fā)或升華,使之在基片表面析出的過(guò)程
小型真空電阻蒸發(fā)鍍膜機(jī) 產(chǎn)品信息

設(shè)備用途

利用電阻加熱產(chǎn)生熱能,將待成膜的物質(zhì)置于真空中進(jìn)行蒸發(fā)或升華,使之在基片表面析出的過(guò)程。用于制備各類金屬膜等,廣泛應(yīng)用千大專院校、科研機(jī)構(gòu)的科研及小批量的生產(chǎn)。
主要技術(shù)指標(biāo)
真空指標(biāo)
極限真空度:≤7x10-5Pa (經(jīng)烘烤除氣后);
系統(tǒng)真空檢漏漏率:≤5.0x10-7 Pa.l/S;
系統(tǒng)短時(shí)間暴露大氣并充干燥氮?dú)夂?,再開(kāi)始抽氣,40分鐘可達(dá)到3x10-3 Pa;
停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后真空度:≤20Pa;
真空室
真空室尺寸:Φ300 X 365mm, 上開(kāi)蓋結(jié)構(gòu),上面焊有觀察窗,放氣閥、膜厚儀等法蘭接口。選用優(yōu)質(zhì)不銹鋼材料制造,氬弧焊接,表面特殊工藝處理。內(nèi)壁掛防污板。
樣品
樣品盤上可承裝Φ150mm以下樣品 ,樣品盤轉(zhuǎn)速10—60轉(zhuǎn)/分, 轉(zhuǎn)速連續(xù)可調(diào)。電動(dòng)控制擋板一套;
真空獲得及測(cè)量
分子泵+機(jī)械泵,數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)(皮拉尼規(guī)+電離規(guī))
蒸發(fā)舟
兩個(gè)蒸發(fā)舟,10CC
蒸發(fā)電源
3KW,帶有微調(diào)功能
控制系統(tǒng) 
手動(dòng)
工作壓力控制系統(tǒng)
手動(dòng)
水冷機(jī)組
可選
石英晶振膜厚儀
可選
關(guān)鍵詞:放氣閥 真空計(jì)
15700106413
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