旋轉(zhuǎn)陰極裝置與行內(nèi)普通平面靶裝置相比靶材使用周期與利用效率顯著提高。
可客制化的基板工件架結(jié)構(gòu)定制,給客戶產(chǎn)品擺放達(dá)到的利用空間。
全自動一體的提拉升降的轉(zhuǎn)架裝置,大幅度減少機器開關(guān)門時間,大大提高了生產(chǎn)效率與工藝穩(wěn)定性。
高效率真空泵組配比與精密的腔體結(jié)構(gòu)使我司抽氣效率達(dá)到行業(yè)水平。
匯成RF離子源具有工作范圍廣能量均衡,高離化率,超穩(wěn)定工作效率,低耗能等特點。
可利用時間精準(zhǔn)控制薄膜厚度,達(dá)到設(shè)計工藝要求,節(jié)省晶控,光控環(huán)節(jié),為客戶省去大量的膜厚儀耗材。
可生產(chǎn)高折射率氮化薄膜,提高薄膜硬度性能。
低溫成膜,可應(yīng)對各種用途。
可依靠負(fù)載鎖定裝置保持穩(wěn)定的成膜品質(zhì)。
利用自動濺射控制裝置,使濺射工藝實現(xiàn)了自動化。
可選“校正板外部調(diào)節(jié)機構(gòu)”。
AR、UV/IR截止濾光片、AF、硬質(zhì)AR膜、硬質(zhì)膜、增強反射膜、裝飾膜、帶通濾光片、RGB濾光器、光觸媒、HR膜等