公司是集開發(fā)、制造、經(jīng)營(yíng)為一體的材料創(chuàng)新型企業(yè)，如今公司的產(chǎn)品已經(jīng)遍布國(guó)內(nèi)大多數(shù)實(shí)驗(yàn)室 及*校，科探儀器已經(jīng)成為老師 同學(xué)歡迎和信任的品牌之一
公司以科技創(chuàng)新為主，服務(wù)社會(huì)為宗旨，積極設(shè)計(jì)開發(fā)新型材料制備設(shè)備，奉獻(xiàn)于教育和科學(xué)，經(jīng)過(guò)長(zhǎng)期的研發(fā)和不斷地技術(shù)積累，擁有熱工，制造，控制相關(guān)技術(shù)10余項(xiàng)，為化學(xué)，物理，材料，電子，高分子工程，新材料制備和研發(fā)領(lǐng)域的科學(xué)研究提供了精良設(shè)備。公司通過(guò)和院校老師 同學(xué)強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)合，形成了有效的信息，技術(shù)交流平臺(tái)，為科探儀器了解市場(chǎng)需求提供了強(qiáng)有力的支持！。
目前公司已研發(fā)生產(chǎn)產(chǎn)品十多個(gè)系列幾十款產(chǎn)品，產(chǎn)品囊括實(shí)驗(yàn)電爐、CVD供氣系統(tǒng)、等離子清洗機(jī)、小型離子濺射儀、小型蒸鍍儀等，主要適用于科研院校及工礦企業(yè)在新材料、新能源等領(lǐng)域物理特性及化學(xué)特性的研究，廣銷于各大院校，及材料研究所。
公司與國(guó)內(nèi)高校，科研院所有多層次的合作關(guān)系，建有開放實(shí)驗(yàn)室，相關(guān)領(lǐng)域的教授、高級(jí)工程師、博士參與公司產(chǎn)品的研究和開發(fā)。我們秉承公司的發(fā)展理念，依靠嚴(yán)謹(jǐn)?shù)募夹g(shù)研發(fā)能力，科學(xué)合理的生產(chǎn)工藝，精益求精的制造要求，全心全意做好產(chǎn)品質(zhì)量和服務(wù)工作，科探儀器時(shí)刻懷著一顆真誠(chéng)的心期待與您的合作。
| 靶材材質(zhì) | 金銀銅鉻鎳鈦鎂鋁 | 靶材尺寸 | 50mm |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地 | 國(guó)產(chǎn) | 濺射氣體 | 氬氣 |
| 樣品倉(cāng)尺寸 | 80mm | 樣品臺(tái)尺寸 | 80mm |
單靶直流磁控濺射鍍膜儀 直流磁控濺射真空鍍膜設(shè)備，7寸人機(jī)界面，自動(dòng)手動(dòng)模式切換控制，功率可達(dá)1000w
直流磁控濺射單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導(dǎo)電#分享秋日好天氣# 薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備，特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等單靶直流磁控濺射鍍膜儀單靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。單靶直流磁控濺射鍍膜儀所配電源為1000W大功率直流電源，可用于高能量的金屬濺射鍍膜，根據(jù)實(shí)驗(yàn)需求也可以選配其他規(guī)格的直流或者射頻電源來(lái)實(shí)現(xiàn)各種材料的鍍膜操作
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