概述：
氨分解制氫爐是以工業(yè)氨氣為原料，在催化劑的作用下，加熱分解得到含75％H2和 25％N2的氫氮混合氣。經(jīng)過(guò)純化器后的混合氣，殘氨含量小于2PPm，露點(diǎn)可達(dá)-70℃，氧含量小于3PPm。
高普公司的氨分解制氫爐的產(chǎn)氣量為5～500NM3/H。
系統(tǒng)簡(jiǎn)介：
用戶可用液氨鋼瓶或液氨儲(chǔ)槽來(lái)提供氨源。液氨經(jīng)過(guò)氨汽化器后成為壓力穩(wěn)定的氣態(tài)氨，氨氣經(jīng)過(guò)減壓閥后便可直接進(jìn)入氨分解爐進(jìn)行分解，分解后直接得到氫氮混合氣?；旌蠚夥战?jīng)熱交換器和水冷卻，經(jīng)過(guò)流量控制后，可進(jìn)行純化處理。
氨分解制氫爐由加熱元件、溫度控制和分解爐膽組成；加熱元件由低瓦密度的鎳鉻合金作為加熱元件，確保長(zhǎng)久的使用期，采用真空吸濾成型的耐火纖維進(jìn)行保溫，確保絕熱質(zhì)量,U型分解爐膽采用耐腐蝕高鎳合金制作，內(nèi)裝有鎳催化劑。
純化裝置主要有除氧器（對(duì)氣氛含氧量有特殊要求的客戶選用）、冷卻器、分子篩吸附干燥器和閥門(mén)組、電氣控制等組成。純化裝置有兩只分子篩吸附干燥器，兩只分子篩吸附干燥器循環(huán)使用，其中一只在吸附雜質(zhì)時(shí)，另一只在脫附排放雜質(zhì)。分子篩吸附脫除氣體中的水和殘氨后，氣體中的雜質(zhì)含量均小于1PPm。
液氨儲(chǔ)存蒸發(fā)系統(tǒng)流程示意圖
分解爐：分解爐主要由爐膽、分解爐體、機(jī)箱、加熱元件、閥門(mén)儀表等組成。
純化器：主要有除氧器（對(duì)氣氛含氧量有特殊要求的客戶選用）、冷卻器、分子篩吸附干燥器和閥門(mén)組、電氣控制等組成。
