關鍵詞:磁控濺射、電子束蒸鍍、超高真空、金屬膜、氧化膜、約瑟夫森結(jié)、超導、量子器件、量子比特、
多腔體、Qubit、UHV、鈮基超導、氮化鈮、鈦氮化鈮、NbTiN、NbN、sputtering system
Evaporation system、Nb-based superconductor、超導鋁結(jié)、Josephson junction
產(chǎn)地:歐洲; 型號:MEB550; 應用:制備金屬膜、氧化膜,超導鋁結(jié)等
高真空電子束蒸發(fā)鍍膜設備是量子器件制備中的儀器,用于制備各種高純金屬薄膜和氧化物薄膜。開展量子計算機實驗研究,如基于金剛石NV色心,離子阱,超導量子結(jié),量子點電子自旋的研究,均需要蒸鍍各種高質(zhì)量金屬薄膜來制備量子器件。此款高真空電子束蒸發(fā)鍍膜儀(HV E-beam evaporation system)得到科研工作者廣泛使用和推崇,并且具有良好的聲譽。利用上述配置,研究者可以制備各種高品質(zhì)和高度可重復性薄膜材料。
目前包括物理所、清華大學、哈爾濱工業(yè)大學、蘇州醫(yī)工所、長春光機所、上海酸鹽研究所等單位均在使用相關設備;在國際上也獲得了美國(Yale Univ, Princeton Univ, UCSB, Chicago Univ, Raytheon)、英國(Glasgow Univ)、德國(KIT Karlsruhe, Dresden Univ)、日本(NTT, RIKEN, Tokyo Univ)、加拿大(Waterloo Univ, Sherbrooke Univ)、法國 (CNRS, CEA, Thales Group, Grenoble, IEMN, Univ Geneva)、瑞士(ETH Zurich)、瑞典(Chalmers Univ)、俄羅斯(SKOLKOVO)、意大利(STMicroelectronics)等國家的機構(gòu)的高度認可。
推薦配置:可以用于沉積幾乎任何金屬及氧化物薄膜,目前主要超導量子實驗室均使用該設備制備超導結(jié)(量子比特和約瑟夫森結(jié))和量子器件,可以制備大面積、高度穩(wěn)定性和可重復性超導結(jié)。
全自動軟件包,支持半自動和手動模式,支持遠程網(wǎng)絡操作和維護。
典型用戶:耶魯大學、UCSB、普林斯頓大學、滑鐵盧大學、法國科學研究中心(CNRS)、格拉斯哥大學、日本NTT、清華大學等,歡迎咨詢!