一、概述
ME-L 是一款科研級全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀，凝聚了頤光科研團隊在橢偏技術多年的投入，其采用行業(yè)前沿的創(chuàng)新技術，具備 1 全穆勒矩陣測量技術， 2 雙旋轉補償器同步控制技術，3 超級消色差補償器設計技術，4 納米光柵表征測量技術 等技術。可應用于各種各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學納米光柵常數(shù)以及一維/二維納米光柵材料結構的表征分析，代表當今橢偏行業(yè)高精尖技術水平。
■ 雙旋轉補償器(DRC)配置一次測量全部穆勒矩陣16個元素；
■ 配置自動變角器、五維樣件控制平臺等優(yōu)質(zhì)硬件模塊；
■ 軟件交互式界面配合輔助向?qū)皆O計，易上手、操作便捷；
■ 豐富的數(shù)據(jù)庫和幾何結構模型庫，保證強大數(shù)據(jù)分析能力
二、產(chǎn)品特點
■ 采用氘燈和鹵素燈復合光源，光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm)；
■ 可實現(xiàn)穆勒矩陣數(shù)據(jù)處理，測量信息量更大，測量速度快、數(shù)據(jù)更加精準；
■ 基于雙旋轉補償器配置，可一次測量獲得全穆勒矩陣的16個元素，相對傳統(tǒng)光譜橢偏儀可獲取更加豐富全面測量信息；
■ 頤光核心技術確保在寬光譜范圍內(nèi)，提供優(yōu)質(zhì)穩(wěn)定的各波段光譜；
■ 數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫、多種算法模型庫，涵蓋了目前絕大部分的光電材料；
■ 集成對納米光柵的分析，可同時測量分析納米結構周期、線寬、線高、側壁角、粗糙度等幾何形貌信息；
使用頤光科技橢偏儀系列產(chǎn)品，（部分）提及并標注“Eoptics Technology”文獻信息： ? "Giant in-plane optical and electronic anisotropy in tellurene: a quantitative exploration." Nanoscale(2022).單位：華中科技數(shù)字裝備制造國家重點實驗室，通訊作者：谷洪剛，劉世元 等 ? "Enhanced light emission of quantum dot films by scattering of poly(zinc methacrylate) coating CdZnSeS/ZnS quantum dots and high refractive index BaTiO3 nanoparticles." ACS Nano (2020).單位：南方科技大學，通訊作者：孫小衛(wèi) 等 ? "High performance flexible organic photomultiplication photodetector based on ultra-thin silver film transparent electrode." Nanotechnology (2020).單位：太原理工大學，通訊作者：崔艷霞 等 ? "Layer-Dependent Dielectric Function of Wafer-Scale 2D MoS2." Advance Optical Materials (2018).單位：華中科技大學數(shù)，通訊作者：劉世元 等 ? "Ellipsometric study of the complex optical constants of a CsPbBr3 perovskite thin film." Journal of Materials Chemistry C(2017).單位：山東大學，通訊作者：連潔 等 ?"High-Performance Polymer Tandem Solar Cells Employing a New n-Type Conjugated Polymer as an Interconnecting Layer." Advance Materials(2016).單位：華南理工大學發(fā)光材料與器件國家重點實驗室，通訊作者：葉軒立，黃飛 等 |
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