SRS-400型磁控濺射PVD系統(tǒng)，配備三組磁控濺射靶群及控制系統(tǒng)，適用于沉積各種單/多層膜系.可實(shí)現(xiàn)單靶直濺和多靶共射功能。制備氮化物和氧化物反應(yīng)膜濺射功能，可沉積金屬、合金、化合物、半導(dǎo)體、介質(zhì)復(fù)合膜和其它化學(xué)反應(yīng)膜層，非常適合科研實(shí)驗(yàn)或新材料研發(fā)使用，適用于快速多層金屬或合成膜沉積工藝。
主要特點(diǎn)：
- 多膜系沉積功能，可濺射絕大多數(shù)膜層
- DC/RF濺射電源可以使多種膜系隨意切換
- 大抽速真空系統(tǒng)即插即用
- 多靶共鍍功能滿足多層多膜系混鍍要求
- 全自動(dòng)壓力控制，更利于沉積的均勻性
- 預(yù)設(shè)參數(shù)全自動(dòng)成膜過(guò)程無(wú)需人為干預(yù)
應(yīng)用領(lǐng)域：
- 金屬和介質(zhì)膜
- 薄膜傳感器的制造
- 光學(xué)元件
- 納米與微電子
- 太陽(yáng)能電池
主要配置：
- 圓筒型真空室尺寸Ф400mm x320mm
- 500L/s渦輪分子泵+雙級(jí)旋片泵組合
- 全量程B-A復(fù)合真空規(guī)
- 三組2英寸磁控濺射靶
- 公自轉(zhuǎn)陽(yáng)級(jí)基片掛架，更利于大片沉積的均勻性保證。
- 2DC+1RF濺射電源
- VAT全自動(dòng)壓控閘閥
- 石英晶體監(jiān)測(cè)系統(tǒng)用于實(shí)時(shí)厚度測(cè)量（1 nm精度）
- 精密氣體質(zhì)量流量計(jì)（MFC）
- 基板600°C短波紅外可調(diào)加熱器
- 全自動(dòng)腔體上蓋開(kāi)啟裝置
- 自動(dòng)PLC控制系統(tǒng)可提供手動(dòng)調(diào)試模式
- 10英寸工控觸控屏，操作簡(jiǎn)單易用
系統(tǒng)結(jié)構(gòu)圖如下：
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| 技術(shù)指標(biāo) | 可選配置和增加配件 |
| 三組磁控濺射靶全自動(dòng)沉積 | 1200L/s渦輪分子泵系統(tǒng)或低溫泵系統(tǒng) |
| 自動(dòng)記錄并生成沉積薄膜參數(shù)圖，USB端口數(shù)據(jù)傳輸?shù)絇C | DC PLUS電源，用于化合物共射鍍膜 |
| 自動(dòng)基板公轉(zhuǎn)控制 | 石英晶體膜厚控制 |
| 系統(tǒng)壓力自動(dòng)控制濺射壓力 | 備用腔室內(nèi)膽 |
| 2路MFC布?xì)庀到y(tǒng) | 電阻熱主蒸發(fā)系統(tǒng) |
| 極限真空7.0E-7torr(700L/s) | 射頻離子輔助沉積 |
| 1*RF和2*DC電源可三靶共濺 | 射頻等離子基板清洗 |
| 電源規(guī)格：380V – 50/60 HZ-35A | 樣品基板公自轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn) |
| 尺寸：高125cm×寬75cm×深65cm | 多路反應(yīng)氣體MFC |
| 質(zhì)量：?155KG | 腔體密封套件 |
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