該鍍膜機(jī)可鍍制不銹鋼、鉻、鈦、鎢等多種金屬,也可鍍制合金膜或化合物,也可在工件表面上鍍制單層或多層介質(zhì)膜或金屬 ZrN、TiCN、TiAlN 等硬質(zhì)或裝飾涂層,具有鍍膜速度快、膜層質(zhì)量好的優(yōu)點(diǎn)。
◆真空室:鍍膜室尺寸900mm×900mm×1000mm;箱式、前開門結(jié)構(gòu);
◆抽氣系統(tǒng):機(jī)械泵:前級泵70L/S;維持泵:2X-8旋片泵;羅茨泵:ZJP-150;
擴(kuò)散泵:KT-500 ;分子泵: FF250/1600(選配);
◆極限真空:5×10-4Pa;恢復(fù)真空:5×10-3 Pa(小于20min);
◆鍍膜系統(tǒng):平面磁控靶或圓柱磁控靶/直流功率源或中頻功率源;小弧源/柱弧源;
◆ 輔助鍍膜系統(tǒng):脈沖偏壓電源,條形離子源(選配);
◆ 膜厚測量系統(tǒng):石英晶體膜厚監(jiān)控系統(tǒng)(選配);
◆ 進(jìn)氣系統(tǒng):自動(dòng)壓強(qiáng)控制+多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng);
◆操作方式:手動(dòng)按鍵式;控制系統(tǒng)配置:研華工控機(jī),80G硬盤,512內(nèi)存+日本三菱PLC;10英寸液晶顯示觸 摸屏界面;
◆ 旋轉(zhuǎn)夾具:公轉(zhuǎn)/自轉(zhuǎn)夾具,速度從 0~15r/min 無級可調(diào);
◆ 工件烘烤:室溫~300℃;
◆ 供電電源: 三相380V,50Hz。
◆ 特殊規(guī)格可定制。