產品簡介:微型PECVD系統(tǒng)采用Ø3" × 16" 的石英腔體,內部設有加熱圈對樣品進行加熱,溫度可以達到400℃,且采用程序化控溫,系統(tǒng)還配有2通道混氣裝置和雙旋機械泵,整套系統(tǒng)安放于移動架上,便于實驗操作。本系統(tǒng)系對于薄膜生長和納米線的制作是的選擇。
產品型號 | 微型PECVD系統(tǒng) |
安裝條件 | 本設備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:不需要 2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地 3、氣:設備腔室內需充注氣體,需自備氣瓶氣源 4、工作臺:尺寸600mm×600mm×700mm,承重50kg以上 5、通風裝置:需要 |
主要特點 | 1、加熱圈套有石英罩,以減小熱量損失。 2、樣品可置于加熱線圈內,以達到更好的加熱效率和溫度均勻性。 3、采用PID方式調節(jié)溫度,可設置30段升降溫程序。 4、設有一滑動法蘭安裝于移動加上,以便于樣品的放入和取出。 5、已通過CE認證。 |
技術參數 | 等離子源 1、等離子體射頻電源:110V/220V 50Hz/60Hz <100W 2、輸出頻率:13.56MHz 3、射頻功率:7.2W、10.5W、18W三檔,可調節(jié) 4、腔體尺寸:外徑Ø76.2mm×內徑Ø68.58mm×長406.4mm 5、加熱圈:電源220V,功率500W,外徑Ø50mm×內徑Ø40mm×70mm,并套有內徑Ø50.8mm×Ø75mm的石英罩 6、法蘭:Ø3″不銹鋼法蘭,設有KF-25真空泵接口、1/4″卡套接頭、不銹鋼針閥 7、通入氣體:可通入多種惰性氣體,如N2、Ar,不可通入易燃易爆性氣體 8、真空度:10-2torr(機械泵) |
兩通道混氣系統(tǒng) 1、浮子流量計:10ml/min-100ml/min,2個 2、針閥:304不銹鋼針閥,3個 3、壓力表:-0.1MPa-1.0MPa(0.01MPa/grid),3個 | |
真空泵 1、抽氣速率:120L/min 2、接口:KF-25 | |
產品規(guī)格 | 1、尺寸:等離子源216mm×254mm×203mm,控制盒102mm×254mm×203mm, 兩通道混氣系統(tǒng)340mm×300mm×180mm,移動架600mm×600mm×1250mm 2、重量:32kg |