產(chǎn)品簡介:高真空單室熱蒸發(fā)系統(tǒng)用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、 半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。廣泛應用 于大專院校、科研院所的薄膜材料科研與小批量制備。
產(chǎn)品型號 | 高真空單室熱蒸發(fā)系統(tǒng) |
主要特點 | 系統(tǒng)主要由真空室系統(tǒng)蒸發(fā)室、蒸發(fā)源系統(tǒng)、樣品臺系統(tǒng)、 真空抽氣及測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、膜厚測試 系統(tǒng)、上蓋液壓開啟機構、電控系統(tǒng)組成。 |
技術參數(shù) | 1、極限真空度5×10-5Pa,系統(tǒng)漏率:1×10-7PaL/S; 恢復真空時間:40分鐘可達6.6×10 Pa(短時間暴露 大氣并充干燥氮氣后開始抽氣) |
標準配件 |
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可選配件 |
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