全譜直讀光譜儀9800L

應用領域

全譜直讀光譜儀9800L是我公司引進歐洲技術生產,是目前比較*的國際認為的CCD光譜儀技術, 廣泛應用于冶金、鑄造、機械、汽車制造、航空航天、兵器、金屬加工等領域的生產工藝控制，爐前化驗，中心實驗室成品檢驗。落地式全譜直讀光譜儀9800L體積小、穩(wěn)定性好、檢測限低、分析速度快、運行成本低、操作維護方便，是控制產品質量的理想選擇。

產品優(yōu)勢

1、*的CCD全譜光譜儀制造技術（數字化技術替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術）、通道不受限制 ；

2、引進歐洲技術、同國際光譜儀技術同步，國內能生產真空CCD全譜技術光譜儀的制造商；

3、基體范圍內通道改變、增加不需費用；

4、升級多基體方便，無須變動增加硬件；

5、優(yōu)良的數據穩(wěn)定性，同一樣品不同的時間段分析，可獲得良好的數據一致性；

6、體積小、重量輕， 移動安裝方便；

7、高集成度、高可靠性、高穩(wěn)定性；

8、節(jié)電、節(jié)材、能耗只是普通光譜儀50%。

主要特點

1、可測定包括痕量碳（C），磷（P）,硫（S）元素,適用于多種金屬基體，如：鐵基，鋁基，銅基，鎳基，鉻基，鈦基，鎂基，鋅基，錫基和鉛基。全譜技術覆蓋了全元素分析范圍，可根據客戶需要選擇通道元素；

2、分析速度快捷，20秒內測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料，通過設置預燃時間及標線，使儀器用較短的時間達到較優(yōu)的分析效果；

3、光學系統(tǒng)采用真空恒溫光室， 激發(fā)時產生的弧焰由透鏡直接導入真空光室，實現光路直通,消除了光路損耗，提高檢出限，測定結果準確，重現性及長期穩(wěn)定性更佳；

4、特殊的光室結構設計，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半；

5、自動光路校準，光學系統(tǒng)自動進行譜線掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動識別特定譜線，與原存儲線進行對比，確定漂移位置，找出分析線當前的像素位置進行測定；

6、開放式的電及架設計，可以調整的樣品夾，便于各種形狀和尺寸的樣品分析；

7、工作曲線采用國際標樣，預做工作曲線，可根據需要延伸及擴展范圍，每條曲線由多達幾十塊標樣激發(fā)生成，自動扣除干擾；

8、HEPS數字化固態(tài)光源，適應各種不同材料 ；

9、固態(tài)吸附阱，防止油氣對光室的污染，提高長期運行穩(wěn)定性；

10、銅火花臺底座，提高散熱性及堅固性能；

11、合理的氬氣氣路設計，使樣品激發(fā)時氬氣沖洗時間縮短，為用戶節(jié)省氬氣，氬氣消耗不到普通光譜儀的一半；

12、采用鎢材料電及，電及使用壽命更長，并設計了電及自吹掃功能，清潔電及更加容易；

13、高性能DSP及ARM處理器，具有超高速數據采集及控制功能并自動實時監(jiān)測光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊 的運行狀況；

14、儀器與計算機之間采用以太網連接，抗干擾性能好，外部計算機升級與儀器配置無關，使儀器具有更好的適用性；

15、核心器件全部，保證了儀器優(yōu)良的品質。

技術參數

1、光學系統(tǒng)

光學結構：帕邢-龍格結構的全譜真空型光學系統(tǒng)

光室溫度：自動控制恒溫：35℃±0.5℃

波長范圍：160-800nm

光柵焦距：350 mm

光柵刻線：3600 l/mm

光譜線色散率：1.2 nm/mm

探測器：多塊高性能線陣CCD

平均分辨率：10pm/pixel

2、激發(fā)臺

氣體：沖氬式

氬氣流量：激發(fā)時3-5L/min， 待機時:無須待機流量

電及：鎢材噴射電及技術

吹掃：點擊自吹掃功能

補償：熱變形自補償設計

分析間隙：樣品臺分析間隙：4mm

3、激發(fā)光源

類型：HEPS數字化固態(tài)光源

頻率：100-1000Hz

放電電流：1-80A

特殊技術：放電參數優(yōu)化設計

預燃：高能預燃技術

4、數據采集系統(tǒng)

處理器：ARM處理器，高速數據同步采集處理

接口：基于DM9000A的以太數據傳輸

5、電源與環(huán)境要求

輸入：220VAC 50Hz

功率：分析時zui大700W，待機狀態(tài)40W

工作溫度：10-30℃（該溫度范圍內溫度變化不大于5℃/h）

工作濕度：20-80%

6、尺寸與重量

尺寸：800*450*500 mm

重量：120Kg