晶化快速退火爐 嘉儀通 薄膜材料晶化退火,本設(shè)備采用紅外輻射加熱技術(shù),可實現(xiàn)1吋(選配2吋)樣品快速升溫和降溫,同時搭配超高精度溫度控制系統(tǒng),可達到的溫場均勻性,對薄膜材料進行晶化快速退火處理,提高薄膜材料的均勻性及穩(wěn)定性。
晶化快速退火爐產(chǎn)品特點:
快速加熱和降溫: 可控升溫速率可達50 ℃/s,特定條件下可以達到100 ℃/s。冷壁水冷設(shè)計能夠達到較大的降溫速率,特定條件下可達30 ℃/s。
精確控溫: 采用工業(yè)級溫控器進行PID精確控溫,目標(biāo)溫度與設(shè)定溫度曲線一致性高,可實現(xiàn)室溫至1200 ℃的溫度精確控制。
適應(yīng)多種工藝環(huán)境: 滿足多種工藝氣氛下的熱處理(氮氣、氬氣等)。同時,通過選配真空泵,可以在真空條件下進行退火,真空度可達10-3Pa。
配備觀察窗口: 通過觀察窗口,可以實時觀察熱處理過程中的樣品變化。同時,可以結(jié)合相關(guān)測試方法進行原位測試分析。
超高安全系數(shù): 采用爐壁超溫報警系統(tǒng)和冷卻水流量報警系統(tǒng),多方位保障儀器使用安全。
國產(chǎn)退火爐:擁有自主研發(fā)技術(shù)和制造能力,能快速反應(yīng)客戶售后需求。
晶化快速退火爐技術(shù)參數(shù):
型號 | RTP-3-01系列 |
溫度 | 1200℃ |
升溫速率 | 50℃/s |
溫度均勻性 | ≦1%設(shè)定溫度 |
溫度控制 | 選用工業(yè)級溫控器,控溫精度±0.1℃ |
溫度傳感器 | 標(biāo)準(zhǔn)K型熱電偶 |
降溫速率 | 1200℃→400℃,200℃/min 400℃→100℃,20℃/min (自然冷卻) |
樣品尺寸 | W20 x L20 x T2 (mm) |
主機尺寸 | W420X L320X H220 (mm) |
主機重量 | 20.5kg |
晶化快速退火爐 嘉儀通 薄膜材料晶化退火客戶案例:
清華大學(xué)某老師使用嘉儀通1吋晶化快速退火爐給HfO2薄膜做晶化退火,得到晶相一致晶粒較小的晶體,提高薄膜材料的均勻性及穩(wěn)定性。