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德國Sentech RIE SI 591 等離子刻蝕機

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱深圳市科時達電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號RIE SI 591
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2023/6/16 18:54:01
  • 訪問次數(shù)149
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深圳市科時達電子科技有限公司創(chuàng)建于2011年,經(jīng)過十年的發(fā)展,已經(jīng)成長為一家專注于電子材料、半導體儀器設備、醫(yī)療設備三大產(chǎn)品領(lǐng)域的,是一家集研發(fā)、制造、銷售為一體的企業(yè)。我們的主營業(yè)務涉及了研發(fā)銷售及加工電子材料及周邊產(chǎn)品;電子光電產(chǎn)品設備研發(fā)組裝及銷售,半導體儀器設備銷售;國內(nèi)貿(mào)易、貨物及技術(shù)進出口;醫(yī)療器械研發(fā)及銷售;醫(yī)用耗材及醫(yī)療用品的銷售等。科技創(chuàng)新是科時達公司的核心競爭力。我們擁有一支高度專業(yè)化的技術(shù)研發(fā)和管理團隊,建立了國內(nèi)的實驗室和光電研究中心,與多家科研機構(gòu)與大專院校開展“產(chǎn)、學、研”合作,成功開發(fā)出一系列具有高科技含量的市場產(chǎn)品,公司產(chǎn)品通國內(nèi)科研機構(gòu)的產(chǎn)品認證。同時,公司擁有電子信息領(lǐng)域相對完備的科技創(chuàng)新體系,在電子裝備、醫(yī)療設備、產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)、網(wǎng)絡安全等領(lǐng)域占據(jù)技術(shù)主導地位,肩負著支撐科技自立自強、推進國內(nèi)科技現(xiàn)代化、加快數(shù)字經(jīng)濟發(fā)展、服務社會民生的重要職責。聚焦“三大定位”主責,科時達公司按照“做優(yōu)電子裝備、做大儀器設備、做精產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)、做強研發(fā)銷售”的總體布局,持續(xù)優(yōu)化核心業(yè)務體系,推動企業(yè)在科技現(xiàn)代化建設、現(xiàn)代產(chǎn)業(yè)體系建設的核心關(guān)鍵技術(shù)節(jié)點上“布點”,在產(chǎn)業(yè)鏈價值鏈創(chuàng)新鏈關(guān)鍵環(huán)節(jié)上“成線”,在關(guān)系國家、國民經(jīng)濟命脈和國計民生關(guān)鍵領(lǐng)域上“控面”。做強電子裝備,重點發(fā)展利用聲、光、電磁信號進行信息感知、傳輸、運用等的系統(tǒng)級裝備和產(chǎn)品,打造全域多維一體新一代電子裝備,不斷夯實在高??蒲蓄I(lǐng)域和高科枝企業(yè)的提供地位。做大儀器設備,重點發(fā)展半導體儀器基礎(chǔ)設施和醫(yī)療設備應用與整體解決方案,全面支撐基于網(wǎng)絡信息體系的聯(lián)合和全域能力提升、國家治理能力提升和數(shù)字化發(fā)展。做精產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ),重點打造形成電子基礎(chǔ)產(chǎn)品科研和生產(chǎn)的基礎(chǔ)支撐能力,以夯實產(chǎn)業(yè)鏈供應鏈自主可控能力為根本目標,推動以“科時達基因”為核心的銷售集群式發(fā)展。做強研發(fā)銷售,致力于電子產(chǎn)品的研發(fā)。科時達公司是一家,多年來公司研發(fā)團隊致力于電子材料、半導體儀器和醫(yī)療設備的研發(fā)。同時企業(yè)還致力于將產(chǎn)品做好國內(nèi)外市場銷售,在整體銷售模式中具備一套完整的銷售體系。以客戶需求為導向,以質(zhì)量求生存,科時達公司以超凡的品質(zhì)和優(yōu)良的服務,獲得國內(nèi)外市場的一致認可;公司營銷網(wǎng)絡覆蓋,產(chǎn)品世界各地,目前已經(jīng)成為國內(nèi)電子科技行業(yè)中重要的生產(chǎn)制造基地。
德國SentechRIESI591等離子刻蝕機占地面積小且模塊化程度高SI591可配置為單個反應腔或作為片盒到片盒裝載的多腔設備
德國Sentech RIE SI 591 等離子刻蝕機 產(chǎn)品信息

德國Sentech RIE SI 591 等離子刻蝕機



占地面積小且模塊化程度高

SI 591 可配置為單個反應腔或作為片盒到片盒裝載的多腔設備。



SENTECH控制軟件

我們的等離子蝕刻設備包括用功能強大的用戶友好軟件與模擬圖形用戶界面,參數(shù)窗口,工藝窗口,數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。



預真空室和計算機控制的等離子體刻蝕工藝條件,使得SI 591 具有優(yōu)異的工藝再現(xiàn)性和等離子體蝕刻工藝靈活性。靈活性、模塊性和占地面積小是SI 591的設計特點。樣品直徑大可達200mm,通過載片器加載。SI 591可以配置為穿墻式操作或具有更多選項的小占地面積操作。



位于頂部電極和反應腔體的更大診斷窗口可以輕易地容納SENTECH激光干涉儀或OES和RGA系統(tǒng)。橢偏儀端口可用于SENTECH橢偏儀進行原位監(jiān)測。


SI 591結(jié)合了計算機控制的RIE平行板電極設計的優(yōu)點和預真空室系統(tǒng)。SI 591可配置用于各種材料的刻蝕。在SENTECH,我們提供不同級別的自動化程度,從真空片盒載片到一個工藝腔室或多六個工藝模塊端口,可用于不同的蝕刻和沉積工藝模塊組成多腔系統(tǒng),目標是高靈活性或高產(chǎn)量。SI 591也可用作多腔系統(tǒng)中的一個工藝模塊。



工藝靈活性

RIE蝕刻機SI 591 特別適用于氯基和氟基等離子蝕刻工藝


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