我們所提供的Ossila紫外臭氧清洗機(jī)系統(tǒng)是一種簡(jiǎn)單,經(jīng)濟(jì),高效的材料表面清洗設(shè)備。只需把樣品放置到托盤上,關(guān)上艙門,設(shè)置時(shí)間,按下運(yùn)行按鈕,就可以在幾分鐘內(nèi),快速去除大多數(shù)無機(jī)基材上的有機(jī)污染物,為您提供超潔凈的表面。通過使用高功率紫外線光源產(chǎn)生臭氧,將污染物分解成揮發(fā)性化合物。這些揮發(fā)性化合物從表面蒸發(fā)而跡。這種方法可產(chǎn)生接近原子級(jí)的清潔表面并且不會(huì)損壞樣品。
應(yīng)用工藝:
?改善表面親水性
?表面清洗
?準(zhǔn)備薄膜沉積
?表面處理
?紫外固化
?表面滅菌消毒
?去除表面單分子膜
?表面氧化
?清洗AFM / STM探針
?清洗光學(xué)元件
可清洗的基材示例:
?石英
?硅
?氧化硅
?氮化硅
?金
?鎳
?鋁
?砷化鎵
?礬土
?玻璃
?不銹鋼
可去除的污染物示例:
?光刻膠
?樹脂
?人體皮膚油脂
?清洗溶劑的殘留物
?塑料/硅片表面油漬
?助焊劑
產(chǎn)品特點(diǎn):
?成本低;
?120x120mm樣品臺(tái);
?處理樣品高度為14mm;
?抽屜式樣品臺(tái),簡(jiǎn)單方便;
?樣品臺(tái)自安全聯(lián)鎖,防止對(duì)人身傷害;
?LCD屏顯示“已用時(shí)間”和“剩余時(shí)間”;
?60分鐘計(jì)時(shí)器;
?高強(qiáng)度紫外線燈源;
?可控溫的樣品臺(tái);
?樣品清洗無需溶劑;
?超凈表面。
下圖顯示了UV臭氧處理對(duì)基材的影響,以改善表面親水性。