一、設(shè)備名稱、型號(hào)、原產(chǎn)地、交貨期
1.1 設(shè)備名稱:真空等離子清洗機(jī)
1.2 型號(hào):VPC42
1.3 原產(chǎn)地(國(guó)別、廠家):北京中科中科同志股份有限公司
1.4 交貨期:合同生效后4-8周
1.5 主要用于硅晶圓、玻璃基板、陶瓷基板、IC載板、銅引線框架、大尺寸單面基板電源板、IGBT模塊、帶治具的MEMS傳感器、微波器件、濾波器、射頻器件等半導(dǎo)體封裝領(lǐng)域的等離子表面處理工藝。
二、設(shè)備主要技術(shù)性能指標(biāo):
2.1 真空腔體體積:42L
2.2 真空度:VPC42真空等離子清洗機(jī)真空度小于2 Pa(機(jī)械干泵 40L/Min)
2.3 有效清洗面積:
單個(gè)承片臺(tái)面積:350*350mm
15層:間隔15mm:40KHZ 2KW 中頻(表面處理)
5層:間隔50mm,13.56HZ 300W 射頻(體積處理,帶水冷)
2.4 真空腔室高度:
爐膛高度350mm(有效尺寸)
2.5 清洗溫度:
低溫清洗(低于室溫)。
2.6 清洗節(jié)拍:30-120S
2.7 清洗效果:達(dá)因值可達(dá)到70.水滴角15度,可控制到10以內(nèi)(百級(jí)無(wú)塵4小時(shí)以內(nèi))
2.8 氣體環(huán)境:
氬氣、氮?dú)?、氧氣、氮?dú)浠旌蠚怏w、氫氣、四氟化碳都支持。
2.9 VPC42真空等離子清洗機(jī)配置軟件控制系統(tǒng):
軟件控制系統(tǒng),操作簡(jiǎn)單,能接控制設(shè)備及設(shè)定各種清洗工藝曲線,并根據(jù)工藝不同進(jìn)行設(shè)定、修改、存儲(chǔ)、調(diào)用;軟件自帶分析功能,能對(duì)工藝曲線進(jìn)行分析。軟件控制系統(tǒng)自動(dòng)的實(shí)時(shí)記錄清洗工藝參數(shù)及溫度曲線、時(shí)間、報(bào)警相關(guān)數(shù)據(jù),保證產(chǎn)品清洗工藝的可追溯性。
2.10 設(shè)備無(wú)需校正,不會(huì)產(chǎn)生多余的校證費(fèi)用
2.11 操作功耗:2.5KW,不含冷水機(jī)功耗(中頻); 1.5KW,不含冷水機(jī)功耗(射頻)
2.12 具有超溫報(bào)警及記錄功能。(標(biāo)配)
VPC42型真空等離子清洗機(jī)具有清洗過(guò)程工件表面超溫保護(hù)及報(bào)警功能、整機(jī)溫度安全保護(hù)功能及記錄功能。
2.13 具有氮?dú)狻?/strong>氬氣等流量管理及分析系統(tǒng)(軟件+硬件)。(選配)
VPC42型真空等離子清洗機(jī)具有整機(jī)消耗氮?dú)?、氬氣等工藝氣體的實(shí)時(shí)管理及分析功能,可以實(shí)時(shí)分析氣體使用量、日使用量、周使用量、時(shí)間段使用量等記錄和分析功能。
2.14 具有工藝氣體壓力報(bào)警功能和分析系統(tǒng)(軟件+硬件)。(選配)
VPC42型真空等離子清洗機(jī)具有整機(jī)生產(chǎn)過(guò)程中工藝氣體氣源欠壓報(bào)警及記錄和分析功能,對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量追溯超有用。
2.15 具有能源管理及分析系統(tǒng)(軟件+硬件)。(選配)
VPC42型真空等離子清洗機(jī)具有能源消耗實(shí)時(shí)管理及分析功能,可以分析實(shí)時(shí)耗電量、日耗電量、周耗電量、時(shí)間段耗電量等記錄和分析功能。
2.16 具有產(chǎn)量統(tǒng)計(jì)管理及分析系統(tǒng)(軟件+硬件)。(選配)
VPC42型真空等離子清洗機(jī)具有整機(jī)真空處理產(chǎn)品產(chǎn)量實(shí)時(shí)管理及分析功能,可以實(shí)時(shí)班產(chǎn)量、日產(chǎn)量、周產(chǎn)量、月產(chǎn)量登并記錄和分析,用于產(chǎn)品質(zhì)量追溯和分析。
2.17 具有MES數(shù)據(jù)接口子系統(tǒng)(軟件+硬件)。(選配)
VPC42型真空等離子清洗機(jī)具有整機(jī)MES數(shù)據(jù)接口功能,可以選配并配置MES系統(tǒng),完成智能設(shè)備的各種數(shù)據(jù)采集及分析。
2.18 設(shè)備外形尺寸:
850*960*1680mm(不包括警燈)
2.19 設(shè)備內(nèi)部結(jié)構(gòu):見(jiàn)下圖
三、設(shè)備基本構(gòu)成和配置:
四、VPC42技術(shù)參數(shù)表
1.1 設(shè)備名稱:真空等離子清洗機(jī)
1.2 型號(hào):VPC42
1.3 原產(chǎn)地(國(guó)別、廠家):北京中科中科同志股份有限公司
1.4 交貨期:合同生效后4-8周
1.5 主要用于硅晶圓、玻璃基板、陶瓷基板、IC載板、銅引線框架、大尺寸單面基板電源板、IGBT模塊、帶治具的MEMS傳感器、微波器件、濾波器、射頻器件等半導(dǎo)體封裝領(lǐng)域的等離子表面處理工藝。
二、設(shè)備主要技術(shù)性能指標(biāo):
2.1 真空腔體體積:42L
2.2 真空度:VPC42真空等離子清洗機(jī)真空度小于2 Pa(機(jī)械干泵 40L/Min)
2.3 有效清洗面積:
單個(gè)承片臺(tái)面積:350*350mm
15層:間隔15mm:40KHZ 2KW 中頻(表面處理)
5層:間隔50mm,13.56HZ 300W 射頻(體積處理,帶水冷)
2.4 真空腔室高度:
爐膛高度350mm(有效尺寸)
2.5 清洗溫度:
低溫清洗(低于室溫)。
2.6 清洗節(jié)拍:30-120S
2.7 清洗效果:達(dá)因值可達(dá)到70.水滴角15度,可控制到10以內(nèi)(百級(jí)無(wú)塵4小時(shí)以內(nèi))
2.8 氣體環(huán)境:
氬氣、氮?dú)?、氧氣、氮?dú)浠旌蠚怏w、氫氣、四氟化碳都支持。
2.9 VPC42真空等離子清洗機(jī)配置軟件控制系統(tǒng):
軟件控制系統(tǒng),操作簡(jiǎn)單,能接控制設(shè)備及設(shè)定各種清洗工藝曲線,并根據(jù)工藝不同進(jìn)行設(shè)定、修改、存儲(chǔ)、調(diào)用;軟件自帶分析功能,能對(duì)工藝曲線進(jìn)行分析。軟件控制系統(tǒng)自動(dòng)的實(shí)時(shí)記錄清洗工藝參數(shù)及溫度曲線、時(shí)間、報(bào)警相關(guān)數(shù)據(jù),保證產(chǎn)品清洗工藝的可追溯性。
2.10 設(shè)備無(wú)需校正,不會(huì)產(chǎn)生多余的校證費(fèi)用
2.11 操作功耗:2.5KW,不含冷水機(jī)功耗(中頻); 1.5KW,不含冷水機(jī)功耗(射頻)
2.12 具有超溫報(bào)警及記錄功能。(標(biāo)配)
VPC42型真空等離子清洗機(jī)具有清洗過(guò)程工件表面超溫保護(hù)及報(bào)警功能、整機(jī)溫度安全保護(hù)功能及記錄功能。
2.13 具有氮?dú)狻?/strong>氬氣等流量管理及分析系統(tǒng)(軟件+硬件)。(選配)
VPC42型真空等離子清洗機(jī)具有整機(jī)消耗氮?dú)?、氬氣等工藝氣體的實(shí)時(shí)管理及分析功能,可以實(shí)時(shí)分析氣體使用量、日使用量、周使用量、時(shí)間段使用量等記錄和分析功能。
2.14 具有工藝氣體壓力報(bào)警功能和分析系統(tǒng)(軟件+硬件)。(選配)
VPC42型真空等離子清洗機(jī)具有整機(jī)生產(chǎn)過(guò)程中工藝氣體氣源欠壓報(bào)警及記錄和分析功能,對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量追溯超有用。
2.15 具有能源管理及分析系統(tǒng)(軟件+硬件)。(選配)
VPC42型真空等離子清洗機(jī)具有能源消耗實(shí)時(shí)管理及分析功能,可以分析實(shí)時(shí)耗電量、日耗電量、周耗電量、時(shí)間段耗電量等記錄和分析功能。
2.16 具有產(chǎn)量統(tǒng)計(jì)管理及分析系統(tǒng)(軟件+硬件)。(選配)
VPC42型真空等離子清洗機(jī)具有整機(jī)真空處理產(chǎn)品產(chǎn)量實(shí)時(shí)管理及分析功能,可以實(shí)時(shí)班產(chǎn)量、日產(chǎn)量、周產(chǎn)量、月產(chǎn)量登并記錄和分析,用于產(chǎn)品質(zhì)量追溯和分析。
2.17 具有MES數(shù)據(jù)接口子系統(tǒng)(軟件+硬件)。(選配)
VPC42型真空等離子清洗機(jī)具有整機(jī)MES數(shù)據(jù)接口功能,可以選配并配置MES系統(tǒng),完成智能設(shè)備的各種數(shù)據(jù)采集及分析。
2.18 設(shè)備外形尺寸:
850*960*1680mm(不包括警燈)
2.19 設(shè)備內(nèi)部結(jié)構(gòu):見(jiàn)下圖
三、設(shè)備基本構(gòu)成和配置:
編號(hào) | 名稱 | 配置 | 數(shù)量 |
1 | 真空等離子清洗機(jī) | 主機(jī) | 1臺(tái) |
2 | 等離子體電源系統(tǒng) | 標(biāo)配 | 1套 |
3 | 測(cè)溫系統(tǒng) | 標(biāo)配(2組測(cè)溫?zé)犭娕?一用一備) | 1套 |
4 | 真空系統(tǒng) | 標(biāo)配 | 1套 |
5 | 機(jī)械泵 | 標(biāo)配 | 1套 |
6 | 水冷系統(tǒng) | 標(biāo)配(不含工業(yè)水冷機(jī)) | 1套 |
7 | 工業(yè)冷水機(jī) | 選配 | 1套 |
8 | 工藝氣體系統(tǒng) | 標(biāo)配(工藝氣路管道及接口) | 1套 |
9 | 氮?dú)鈿夥毡Wo(hù)系統(tǒng) | 標(biāo)配(不包括氮?dú)鈿庠垂?yīng)) | 1套 |
10 | 真空等離子清洗機(jī)軟件系統(tǒng) | 標(biāo)配(控制軟件) | 1套 |
11 | 工業(yè)計(jì)算機(jī) | 標(biāo)配 | 1套 |
12 | 等離子體 | 標(biāo)配 | 1支 |
13 | 測(cè)溫傳感器(備件) | 標(biāo)配 | 2根 |
14 | 冷卻氣管(備件) | 標(biāo)配 | 2根 |
15 | 工藝氣體流量管理及分析系統(tǒng) | 選配 | 1套 |
16 | 工藝氣體壓力報(bào)警功能和分析系統(tǒng) | 選配 | 1套 |
17 | 能源管理及分析系統(tǒng) | 選配 | 1套 |
18 | 氧含量管理及分析系統(tǒng) | 選配 | 1套 |
19 | MES數(shù)據(jù)接口系統(tǒng) | 選配 |
四、VPC42技術(shù)參數(shù)表
品 牌 | 設(shè)備廠商 | 北京中科中科同志股份有限公司 TORCH | 備注 |
簡(jiǎn) 介 | 產(chǎn) 地 | 北 京 | |
關(guān)鍵配件 | 溫度傳感器 | 美國(guó)歐米伽 | |
真空泵 | 科儀/鮑絲 | ||
截止閥 | 日本進(jìn)口 | ||
耐蝕閥 | 日本進(jìn)口 | ||
低壓電器 | 法國(guó)施耐德 | ||
按鈕開(kāi)關(guān) | 中國(guó)臺(tái)灣久晨/法國(guó)施耐德 | ||
磁性接近傳感器 | 日本歐姆龍 | ||
加熱器 | TORCH | ||
關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo) | 溫度參數(shù) | 低溫清洗,保持在室溫清洗 | |
真空度 | 5pa | ||
氧含量 | <1ppm | ||
生產(chǎn)效率 | 20-120S | ||
工藝關(guān)鍵指標(biāo) | 質(zhì)量追溯 | 1、工藝氣體壓力報(bào)警記錄。2、氧含量報(bào)警記錄。3、溫度超溫報(bào)警記錄。4、真空值不達(dá)標(biāo)報(bào)警記錄 | |
設(shè)備智能化信息化 | 1、設(shè)備具備智能化功能,以上四項(xiàng)指標(biāo)有一項(xiàng)不達(dá)標(biāo)或者報(bào)警,設(shè)備就整體報(bào)警,并提示停止生產(chǎn)。確保產(chǎn)品的生產(chǎn)質(zhì)量。2、設(shè)備具備能源管理系統(tǒng),耗電量和消耗氮?dú)獾牧?,在能源管理系統(tǒng)實(shí)時(shí)統(tǒng)計(jì)并顯示。3、以上所有信息都可以通過(guò)設(shè)備數(shù)據(jù)接口無(wú)縫對(duì)接MES系統(tǒng),方便管理人員決策管理。 | ||
廠務(wù)條件 | 電 | 380VAC,20A | |
氣 | 壓縮空氣(CDA)0.5Mpa | ||
氮?dú)?/span> | 0.5Mpa | ||
真空 | 設(shè)備配置真干泵 |