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PFA帶刻度燒杯配套PTFE花籃作晶圓清洗容器

參考價(jià)160.00
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱南京濱正紅儀器有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)BZH-T
  • 所  在  地南京市
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間2024/6/5 9:43:44
  • 訪問次數(shù)150
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100ml160.00元1000 只可售
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我司是專門生產(chǎn)、研發(fā)、銷售高科技痕量分析實(shí)驗(yàn)器皿的廠家,我們不斷提升產(chǎn)品的質(zhì)量,秉承 “客戶、服務(wù)、技術(shù)”為根本的理念,并得到眾多客戶的首肯,我們誠摯感謝閣下的支持及協(xié)助,并為我們的合作深感榮幸。我們將一如既往地服務(wù)于客戶,達(dá)到共贏。

主營產(chǎn)品:

1. 痕量分析耗材:FEP、PFA、PTFE特氟龍系列產(chǎn)品,消解罐,微波消解罐,反應(yīng)釜

2.儀器:酸純化器、電熱板、趕酸板、消解儀

3.定制品:為客戶定向加工各種、氟塑料制品、消解罐、電熱板、消解儀,趕酸板。

 

FEP、PFA、PTFE特氟隆系列產(chǎn)品,消解罐,微波消解罐,反應(yīng)釜
產(chǎn)地 國產(chǎn)
PFA(可溶性聚四氟乙烯)是一種具有優(yōu)異化學(xué)穩(wěn)定性的高分子材料。它具有出色的耐腐蝕性,能夠抵抗各種強(qiáng)酸、強(qiáng)堿和有機(jī)溶劑的侵蝕。此外,PFA材料還具備耐高溫的特性,可在高溫環(huán)境下穩(wěn)定工作,而不會(huì)發(fā)生變形或產(chǎn)生有害物質(zhì)。這使得PFA燒杯在晶圓清洗過程中能夠保持穩(wěn)定的性能,有效避免對(duì)晶圓表面的污染。
PFA帶刻度燒杯配套PTFE花籃作晶圓清洗容器 產(chǎn)品信息

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在半導(dǎo)體制造和微電子工藝中,晶圓清洗是一個(gè)至關(guān)重要的環(huán)節(jié)。為確保晶圓表面的純凈度,選擇適合的清洗容器至關(guān)重要。近年來,PFA帶刻度燒杯配套PTFE花籃的組合,因其優(yōu)異的性能,逐漸成為晶圓清洗容器的理想選擇。

 

PFA(可溶性聚四氟乙烯)是一種具有優(yōu)異化學(xué)穩(wěn)定性的高分子材料。它具有出色的耐腐蝕性,能夠抵抗各種強(qiáng)酸、強(qiáng)堿和有機(jī)溶劑的侵蝕。此外,PFA材料還具備耐高溫的特性,可在高溫環(huán)境下穩(wěn)定工作,而不會(huì)發(fā)生變形或產(chǎn)生有害物質(zhì)。這使得PFA燒杯在晶圓清洗過程中能夠保持穩(wěn)定的性能,有效避免對(duì)晶圓表面的污染。

 

PFA帶刻度燒杯配套PTFE花籃作晶圓清洗容器


帶刻度的設(shè)計(jì)使得PFA燒杯在使用過程中能夠精確控制液體的體積和濃度,提高了清洗過程的準(zhǔn)確性和可控性。同時(shí),易于清洗的特點(diǎn)使得PFA燒杯在多次使用后仍能保持良好的清潔度,降低了交叉污染的風(fēng)險(xiǎn)。

 

PFA燒杯相配套的PTFE花籃,作為晶圓清洗過程中的承載工具,同樣具有優(yōu)異的性能。PTFE(聚四氟乙烯)材料同樣具有良好的耐腐蝕性和耐高溫性,能夠確保晶圓在清洗過程中不受損害?;ɑ@的設(shè)計(jì)使得晶圓能夠均勻分布在容器內(nèi),提高了清洗效果和效率。

 

PFA帶刻度燒杯配套PTFE花籃作晶圓清洗容器

PFA帶刻度燒杯配套PTFE花籃作晶圓清洗容器


在實(shí)際應(yīng)用中,PFA帶刻度燒杯與PTFE花籃的組合,可輕松應(yīng)對(duì)晶圓清洗過程中的各種挑戰(zhàn)。無論是強(qiáng)酸強(qiáng)堿的清洗液,還是高溫高壓的清洗環(huán)境,這一組合都能保持穩(wěn)定的性能,確保晶圓表面的清潔度。

 

此外,這一組合的易操作性也為其贏得了廣泛的認(rèn)可。使用者只需將晶圓放入PTFE花籃中,再將花籃放入PFA帶刻度燒杯中,加入適量清洗液,即可進(jìn)行清洗操作。清洗過程中,可通過觀察燒杯上的刻度,精確控制清洗液的體積和濃度,從而確保清洗效果的一致性。

 

綜上所述,PFA帶刻度燒杯配套PTFE花籃作為晶圓清洗容器的理想選擇,其優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性、耐高溫性、易操作性以及精確的液體控制功能,使得其在半導(dǎo)體制造和微電子工藝領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步和工藝要求的提高,相信這一組合將在未來發(fā)揮更加重要的作用,為晶圓清洗提供更高效、更可靠的解決方案。




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