showashinku盒對盒式干法蝕刻裝置 濺射和離子板SPE
showashinku盒對盒式干法蝕刻裝置 濺射和離子板SPE
| 特征 |
| 1. | 緊湊型設備
尺寸（1000mmW×1100mmD×1600mmH） |
| 2. | 單晶圓系統(tǒng)，生產率高，是批量生產的理想選擇 |
| 3. | 加工質量高 |
| ? | 單晶圓類型確保高蝕刻均勻性。 |
| ? | 背面采用非接觸式氣冷系統(tǒng)，不會損壞基板背面 |
| 4. | 采用高真空排氣裝置 |
| 5. | 高可維護性 |
| ? | 真空室的小型化便于維護 |
| 6. | 由于設備外形緊湊，安裝位置沒有限制 |
| 1. | 設備配置 |
| 真空室主要是配備運輸機器人的運輸室，由蝕刻室和盒室三個房間組成。
真空室材料由A5052制成，A5052對運輸室，蝕刻室和盒室都進行了脫脂處理。 |
| 2. | 排氣系統(tǒng) |
| | 渦輪分子泵 | 1套（蝕刻室） | | 旋轉泵 | 2套（蝕刻室、盒式室和運輸室組合） |
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| 3. | 性能 |
| | 極限壓力 | 2.7×10-3Pa以下（蝕刻室） | | 排氣時間 | 3分鐘內至0.10×2-2Pa（蝕刻室） | | 蝕刻深度 | 65nm *配對BK7玻璃（使用φ3英寸或φ4英寸基板時） | | 蝕刻分布 | ±5%以內 *保修區(qū)域：50×50mm以下 | | 循環(huán)時間 | 300秒（24張/ 1盒，φ3或φ4英寸板）*參考值 |
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| 4. | 供電系統(tǒng) |
| | 射頻電源 | 最大 500W （13.56兆赫） | | 匹配盒 | 全自動匹配規(guī)格 |
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| 5. | 氣體引入系統(tǒng) |
| CF/SF、氦、O2 質量流量控制器 3 |
| 6. | 控制系統(tǒng) |
| | 使用定序器可以進行全自動操作。 | | 處理的基板數量始終顯示在觸摸屏上，并且可以從最新的開始檢查錯誤歷史記錄。 |
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| 7. | 外部尺寸 |
| 設備本體 1000mmW×1100mmD×1600mmH
設備重量 1000Kg |
| 8. | 公用事業(yè) |
| | 電力 | 200V 3φ 50/60Hz 12KVA | | 冷卻水 | ー | | 壓縮空氣 | 0.5兆帕 20升/分鐘 | | N2氣體 | 0.3兆帕 60升/分鐘 |
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