PHI 700Xi 俄歇電子能譜儀掃描俄歇納米探針提供高性能的俄歇（AES）頻譜分析，俄歇成像和濺射深度分析的復(fù)合材料包括：納米材料，催化劑，金屬和電子設(shè)備。維持基于PHI CMA的核心俄歇儀器性能，和響應(yīng)了用戶所要求以提高二次電子（SE）成像性能和高能量分辨率光譜。PHI的同軸鏡分析儀（CMA）提供了同軸分析儀和電子槍的幾何實(shí)現(xiàn)高靈敏度多角度廣泛收集，以便完成三維結(jié)構(gòu)圖，在納米級技術(shù)的發(fā)展這是zui基礎(chǔ)的。為了提高SE成像性能，閃爍探測器（Scintillator）已被添加以提高圖像質(zhì)量，另再加上數(shù)碼按鈕的用戶界面再一次的提高了易用性。在不用修改CMA和仍維持俄歇在納米分析的優(yōu)勢下，再添加了高能量分辨率光譜模式，使化學(xué)態(tài)分析的可能再大大的提高?？偫▉碚f，PHI 700Xi 俄歇電子能譜儀掃描俄歇納米探針以*的俄歇納米探針從*的俄歇表面分析儀器，提供了實(shí)用和成熟的技術(shù)，以滿足納米尺度所需要的廣泛實(shí)驗與研發(fā)的用途。
特點(diǎn)：
-- 同軸電子槍和分析幾何和高級的俄歇靈敏度：700Xi的場發(fā)射電子源提供了一個高亮度而直徑小于6 nm的電子束以產(chǎn)生二次電子成像。700Xi的同軸幾何使用了“同軸式分析器（CMA）”，促使高靈敏度俄歇通過廣泛角度收集進(jìn)行分析，即使樣品是表面平滑或復(fù)雜的形狀或高表面粗糙度，都可以確保迅速完成所有分析程序。
-- 高穩(wěn)定性成像平臺：隔聲外殼與振動隔離器提供更穩(wěn)定的成像和分析。隔聲外殼從真空控制面板降低頻率范圍從30赫茲到5K赫茲左右的20 dB的聲壓等級（SPL），穩(wěn)定的溫度大約降低系統(tǒng)造成SEM圖像漂移。新的振動隔離器也減少了地面振動對掃描電鏡圖像和小面積分析的影響。
-- 增強(qiáng)的SE圖像用戶界面：PHI700Xi增強(qiáng)SE成像性能，閃爍器檢測器（Scintillator）已被添加在儀器上從而提高圖像質(zhì)量，加上數(shù)碼按鈕的用戶界面更再次提高了使用的方便性。
-- 新的高分辨率光譜模式：隨著PHI的新技術(shù)，能量分辨率可調(diào)從0.5%到0.05%。多種化學(xué)物質(zhì)的狀態(tài)可以更容易有效的被觀察出來。
-- PHI SmartSoft-AES用戶界面：PHI SmartSoft是一個操作儀器上為用戶的需要而著想的軟件界面。該軟件是任務(wù)導(dǎo)向型和卷標(biāo)在頂部的顯示指引用戶通過引入樣品，分析點(diǎn)的定義，并設(shè)置了分析。多個位置分析可以定義和*范例的定位提供了一個強(qiáng)大的“自動Z軸調(diào)整”的功能。在廣泛使用的軟件設(shè)置，可讓新手能夠快速，方便地設(shè)置了測量，并在未來可以輕易的重復(fù)以往或常用的類似測量。
應(yīng)用領(lǐng)域:
-- 半導(dǎo)體組件: 缺陷分析、蝕刻／清潔殘余物分析、短路問題分析、接觸污染物分析、接口擴(kuò)散現(xiàn)象分析、封裝問題分析等、FIB組件分析
-- 顯示器組件: 缺陷分析、蝕刻／清潔殘余物分析、短路問題分析、接觸污染物分析、接口擴(kuò)散現(xiàn)象分析等
-- 磁性儲存組件: 定義層、表面元素、接口擴(kuò)散分析、孔洞缺陷分析、表面污染物分析、磁頭缺陷分析、殘余物分析等
-- 玻璃及陶瓷材料: 表面沉積物分析、清潔污染物分析、晶界分析等