MA 10用于材料領(lǐng)域,LS 10用于生命科學(xué)領(lǐng)域。該系列電鏡采用多接口的大樣品室和藝術(shù)級(jí)的物鏡設(shè)計(jì)，提供高低真空成像功能，可對(duì)各種材料表面作分析，并且具有業(yè)界的X射線分析技術(shù)。革命性的Beamsleeve的設(shè)計(jì)，確保在低電壓條件下提供高分辨率的銳利圖像，同時(shí)還可以進(jìn)行準(zhǔn)確的能譜分析。樣品臺(tái)為五軸全自動(dòng)控制。標(biāo)準(zhǔn)的高效率無(wú)油渦輪分子泵能夠滿(mǎn)足快速的樣品更換和無(wú)污染(免維護(hù))成像分析。
其電子光學(xué)前身為L(zhǎng)EO（里奧），更早叫Cambridge（劍橋）和ZEISS。1965年推出一臺(tái)商業(yè)化掃描電鏡；1985年推出一臺(tái)數(shù)字化掃描電鏡。
一、蔡司掃描電子顯微鏡EVO MA 10/LS 10用途
掃描電鏡廣泛地應(yīng)用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機(jī)械加工)和非金屬材料(化學(xué)、化工、石油、地質(zhì)礦物學(xué)、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗(yàn)和研究。在材料科學(xué)研究、金屬材料、陶瓷材料、半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料等領(lǐng)域進(jìn)行材料的微觀形貌、組織、成分分析，各種材料的形貌組織觀察，材料斷口分析和失效分析，材料實(shí)時(shí)微區(qū)成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測(cè)量，晶體、晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶粒取向測(cè)量。
二、掃描電子顯微鏡（蔡司）技術(shù)參數(shù)
1、分辨率：2.0nm @ 30KV(SE with Lab6 option) 3.0nm @ 30KV(SE and W) 4.5nm @ 30KV(VP with BSD)
2、加速電壓：0.2—30KV
3、放大倍數(shù)：7—1000000x
4、視野范圍：6mm
5、X-射線參數(shù)：8.5mm WD，35度接收角
6、壓力范圍：10—400Pa(LS10:10-3000Pa)
7、工作室：310mm(φ)×220mm(h)
8、5軸優(yōu)中心自動(dòng)樣品臺(tái)：X=80mm Y=100mm Z=35mm T=0-90°R=360°
9、試樣高度：100mm 試樣直徑：200mm
10、系統(tǒng)控制：基于Windows XP 的SmartSEM
三、掃描電子顯微鏡（蔡司）主要特點(diǎn)
1、可變壓力下操作
2、大移動(dòng)平臺(tái)
3、快速抽真空
4、未來(lái)的保證，可升級(jí)為水蒸氣擴(kuò)展圖像
5、高亮度LaB6資源選擇
6、光線套選擇
四、蔡司掃描電子顯微鏡技術(shù)優(yōu)勢(shì)
1、通過(guò)網(wǎng)絡(luò)可遠(yuǎn)程控制
2、可移動(dòng)大平臺(tái)
3、通用圖像處理
4、改進(jìn)了低真空?qǐng)D像
5、X-射線分析技術(shù)
