產(chǎn)品介紹
| 型號 | ?低壓等離子清洗機 |
| 等離子體發(fā)生器 | 40Khz/13.56Mhz可選 |
| 腔體尺寸 | 2L、5L、10L、60L、110L、180L、200L、1000L可選 |
| 真空泵 | 干泵油泵可選 |
低壓等離子清洗機介紹：
真空等離子清洗機，也叫低壓等離子清洗機，根據(jù)用途的不同，可選用多種構(gòu)造的等離子清洗設備，并可通過選用不同種類的氣體，調(diào)整裝置的特征參數(shù)等方法使工藝流程實現(xiàn)化。但等離子體清洗裝置的基本結(jié)構(gòu)大致是相同的，一般裝置可由真空室、真空泵、高頻電源、電極、氣體導入系統(tǒng)、工件傳送系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等部分組成。通常使用的真空泵是旋轉(zhuǎn)油泵，高頻電源通常用13.56 MHz的無線電波。
低壓等離子清洗機產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設置兩個電極形成電場，用真空泵實現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體愈來愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運動距離也愈來愈長，受電場作用，它們發(fā)生碰撞而形成等離子體，這些離子的活性很高，其能量足以破壞幾乎所有的化學鍵，在任何暴露的表面引起化學反應，不同氣體的等離子體具有不同的化學性能，如氧氣的等離子體具有很高的氧化性，能氧化光刻膠反應生成氣體，從而達到清洗的效果；腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性，這樣就能滿足刻蝕的需要。利用等離子處理時會發(fā)出輝光，故稱之為輝光放電處理。
等離子體清洗的機理，主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來看，等離子體清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài)；氣相物質(zhì)被吸附在固體表面；被吸附基團與固體表面分子反應生成產(chǎn)物分子；產(chǎn)物分子解析形成氣相；反應殘余物脫離表面。
低壓等離子清洗機運行過程如下：
1、被清洗的工件送入真空室并加以固定，啟動運行裝置，開始排氣，使真空室內(nèi)的真空程度達到10 Pa左右的標準真空度。一般排氣時間大約需要2 min。
2、向真空室引入等離子清洗用的氣體，并使其壓力保持在100 Pa。根據(jù)清洗材質(zhì)的不同，可分別選用氧氣、氫氣、氬氣或氮氣等氣體。
3、在真空室內(nèi)的電極與接地裝置之間施加高頻電壓，使氣體被擊穿，并通過輝光放電而發(fā)生離子化和產(chǎn)生等離子體。讓在真空室產(chǎn)生的等離子體籠罩住被處理工件，開始清洗作業(yè)。一般清洗處理持續(xù)幾十秒到幾分鐘。
4、清洗完畢后切斷高頻電壓，并將氣體及氣化的污垢排出，同時向真空室內(nèi)鼓入空氣，并使氣壓升至一個大氣壓。
等離子表面處理技術(shù)的特點是不分處理對象的基材類型，均可進行處理，對金屬、半導體、氧化物和大多數(shù)高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，并可實現(xiàn)整體和局部以及復雜結(jié)構(gòu)的清洗。
