產(chǎn)品簡(jiǎn)介：PCE-6V小型等離子清洗機(jī)集成了RF等離子體發(fā)生技術(shù)、計(jì)算機(jī)控制技術(shù)、軟件編程技術(shù)，采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。工作時(shí)外接一臺(tái)真空泵，清洗腔內(nèi)的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，可短時(shí)間內(nèi)清洗掉有機(jī)污染物，清洗程度可達(dá)到分子級(jí)。PCE-6V小型等離子清洗機(jī)的樣品臺(tái)可選配加熱功能，可加負(fù)偏壓，用以實(shí)現(xiàn)對(duì)樣品的離子蝕刻。此外，其可在特定條件下根據(jù)需要改變某些材料表面的性能。設(shè)備體積小，操作簡(jiǎn)單，應(yīng)用廣泛。
| 產(chǎn)品名稱(chēng) | PCE-6V小型等離子清洗機(jī) |
| 產(chǎn)品型號(hào) | PCE-6V |
| 主要特點(diǎn) | 1、采用氣體作為清洗介質(zhì)，避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。 2、可短時(shí)間內(nèi)清洗掉有機(jī)污染物。 3、清洗程度可達(dá)到分子級(jí)。 4、可在特定條件下根據(jù)需要改變某些材料表面的性能。 5、清洗過(guò)程中的輝光放電可對(duì)某些特殊用途的材料加強(qiáng)粘附性、相容性和浸潤(rùn)性，并可消毒和殺菌。 6、樣品臺(tái)可選配加熱功能，可加負(fù)偏壓，用以實(shí)現(xiàn)離子蝕刻。 7、廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。 |
| 技術(shù)參數(shù) | 1、電壓：AC220V 10A 2、消耗功率：<500W（包括真空泵） 3、RF電源：輸出功率100W，輸出頻率13.56MHz 4、腔體：Ø190mm×98mm 5、石英管：Ø180mm×55mm，壁厚7mm 6、內(nèi)腔：Ø165mm×55mm 7、清洗電極：Ø120mm 8、樣品臺(tái)：Ø150mm，有效尺寸Ø140mm 9、樣品臺(tái)與電極間距：15mm-50mm可調(diào) 10、抽氣管：Ø12mm 11、極限真空度：0.1Pa 12、工作真空度：60Pa-500Pa 13、氣路數(shù)量：2路（選裝） 14、流量控制器數(shù)量：1、2 15、流量顯示儀：2通道 16、氣路接口：Ø6mm 17、加熱樣品臺(tái)：Ø140mm，加熱樣品溫度RT-600℃±1℃（選裝） 18、冷卻水壓力：0.2KPa-0.4KPa 19、工作環(huán)境：溫度5℃-35℃，濕度<80%（相對(duì)濕度）不結(jié)露，海拔高度0-2000m |
| 產(chǎn)品規(guī)格 | 尺寸：245mm×235mm×460mm（不含真空泵），重量：20kg（不含真空泵） |
| 可選配置 | 1、加熱樣品臺(tái) 2、流量控制器（量程10、50、100，可增加通道數(shù)≤2） |
