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光學元件面型測量儀

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱先鋒科技(香港)股份有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質經銷商
  • 更新時間2023/2/16 8:39:01
  • 訪問次數(shù)401
產品標簽:

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先鋒科技是國內的光電產品系統(tǒng)集成商之一,總部位于香港。目前擁有員工30余人,銷售工程師及技術服務工程師全部具有相關專業(yè)的大學本科及以上學歷。憑借在光電領域前沿的不斷探索,公司不僅為用戶提供國外原廠生產的各類標準產品,而且致力于根據用戶的具體要求,提供完整的系統(tǒng)解決方案,包括設計、生產、集成和二次開發(fā)等。

公司一直持續(xù)關注光電類前沿的技術產品,從初期只與有限幾個品牌有業(yè)務關系,發(fā)展到現(xiàn)在與幾十家歐美公司*密切合作。公司提供的產品,其涵蓋面也從初的光譜儀器單一類別,發(fā)展到現(xiàn)在的成像產品、各種激光器、激光測試、太赫茲、光度色度測試、光電元器件、光學元件、精密光學機械運動控制等幾乎所有光電行業(yè)產品系列。公司實行不同產品系列團隊負責制,力爭將銷售和技術崗位的工程師都培養(yǎng)成為各自負責產品類別的人才,實實在在地讓客戶體會到專業(yè)團隊的專業(yè)服務!

公司擁有一支具備專業(yè)知識的銷售工程師團隊,并始終要求相關團隊成員,在銷售過程中從各個領域內的用戶處時刻更新自己的知識內容,保持對各應用領域內新研究內容的了解,從而能夠結合儀器設備的技術特點,按照廣大用戶的不同應用要求,提供準確、*的各種儀器解決方案。

公司的技術服務工程師積累了豐富的儀器安裝、調試及故障解決經驗,并不斷結合科研生產儀器設備的新技術新發(fā)展及用戶的要求,努力完善售后服務體系,力爭做到在盡可能短的時間內為用戶提供迅速有效的技術響應,使用戶的各種技術服務要求盡量得到滿足。針對主營產品和業(yè)務,公司每年定期安排技術服務工程師參加各類技術培訓,購買相應的零配件,力爭做到絕大部分的主流產品維修本地化,免除由于路程往返造成的時間、費用和工作效率上的損失。

公司*門的貿易專員,每年均要處理大量的貿易合同。公司商務團隊,以其豐富貿易經驗,努力協(xié)調公司內外以及公司內部各部門的行動,力爭讓用戶在更短的時間內收到訂購的儀器,享受到相應的服務。

全體員工努力工作的目標是:把公司建設成為一個光電行業(yè)系統(tǒng)集成業(yè)務市場中,技術和服務均的公司。先鋒科技衷心希望得到新老客戶一如既往的支持!

光譜儀
Kaleo MultiWave 光學元件面型測量儀是一臺多波長工作的光學元件面形測試系統(tǒng),用于替代昂貴、低效、操作復雜的干涉儀,測量光學元件的表面面形、透過波差等參數(shù)。
光學元件面型測量儀 產品信息

Kaleo MultiWave 是一臺多波長工作的光學元件面形測試系統(tǒng),用于替代昂貴、低效、操作復雜的干涉儀,測量光學元件的表面面形、透過波差等參數(shù)。

Kaleo MultiWave 通過單次測量即可提供完整的3-D形貌及非平面元件的曲率。所有表面質量參數(shù)尊崇ISO 10110標準。表面不規(guī)則,粗糙度以及波紋亦可測試。

Kaleo MultiWave的多波長測試功能可以在光學元件設計的工作波長進行測試,從而對光學元件基底、鍍膜獲得完整的評價。儀器具備和傳統(tǒng)干涉儀同等的精度,同時具備更大的動態(tài)范圍以測試復雜面形的光學元件。測試以雙程模式工作,兼容透射與反射測量。

多波長干涉儀:

同一機臺,多個波長

標配:625nm - 780nm - 1050nm

可選:UV - 400nm - 1100nm - 短波紅外

高動態(tài)范圍:

> 20um PV

高度畸變波前測試

高精度:

精度與干涉儀同等

高重復度,低噪聲

高性價比的干涉儀解決方案

規(guī)范:

遵從ISO 5725 標準

兼容MetroPro 格式

兼容 ISO 10110 格式

用途:

表面面形測試

鍍膜(AR,介質膜,金屬膜測試......

窗片,干涉濾光片測試

透鏡,非平面鏡測試

應用:

光學元件研發(fā)制造

濾光片及窗片制造

空間及防務

汽車工業(yè)

激光器及其應用

光學元件面型測量儀KALEO MultiWave技術指標:

光路結構

雙通路

標準配置波長

625, 780, 1050nm

可選波長

400 - 1100nm,UV, IR

有效口徑

130mm

可重復性 (ISO 5725)

< 5nm rms

可再造性 (ISO 5725)

<7nm rms

動態(tài)范圍 (失焦), RWE

10um PV

動態(tài)范圍 (失焦), TWE

200nm rms

精度 (RWE)

<80nm rms

精度 (TWE)

<20nm rms

光學元件面型測量儀KALEO MultiWave測試實例:

Fizeau干涉儀測試結果的比較

NBP-780濾光片測試。二者測量RWE的偏差小于40nm P-V

非球面鏡3-D面形

單次測量,無需空白透鏡??赏ㄟ^扣除理想曲面得知面形殘余誤差,從而獲知非球面鏡的加工質量。

產線設備監(jiān)控

通過對塑料、樹脂模壓光學元件的直接測試,實時獲知加工效果,對模具狀態(tài)、工件調整精度等作出實時評價。


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