一、概述
SE-m 是一款針對半導體行業(yè)定制的微區(qū)圖形結(jié)構(gòu)測量的專用型光譜橢偏儀,其采用行業(yè)橢偏創(chuàng)新技術(shù),自主獨立研發(fā)出行業(yè) 1 超小微光斑探測測量技術(shù), 2 定制超快測量速度,等技術(shù)??蓱猛该?/span>各類襯底上的減反膜、導電膜等薄膜的n/k/d測量,適用于微區(qū)圖形的各種光學參數(shù)解析。
二、特色功能
■ 可定制光斑尺寸,最小可達30um;
■ 超快測量,單次測量時間小于0.5秒 ;
■ 系列配置靈活,支持功能定制設(shè)計;
■ 結(jié)構(gòu)緊湊,更適應在線集成測量.
三、測量實例
微區(qū)圖形結(jié)構(gòu)測量
四、應用場景
應用于光學常數(shù)測量,適用于各類光學薄膜等鍍膜檢測應用。
技術(shù)參數(shù)