性能指標(biāo)
- 掃描時(shí)最小正壓力: 0.03mg (軟件可編程選擇和自動(dòng)控制,無需手動(dòng)) 。
- 一臺(tái)設(shè)備需具有大量程和小量程雙探測器的新設(shè)計(jì),即在大量程1.2mm選件時(shí)不丟失儀器的分辨率0.38 ?和精度5 ?（1μm臺(tái)階標(biāo)樣）。
- 垂直分辨率: 0.38 ?。
- Z測量重復(fù)精度:保證 5? 重復(fù)性(1 μm臺(tái)階標(biāo)樣) 均在0.03 mg超微力下，2 μm探針及無防震臺(tái)下驗(yàn)收。
- 垂直測量范圍: 1200 μm。
- 樣品需具有雙向掃描測量的功能,方便定位和掃描。
- 采樣點(diǎn)數(shù)400,000。
- 線性掃描方式,無需校正拋物線型; 掃描長度50 μm-55 mm可以拼接掃描200 mm;掃描速度0.01-0.4 mm/s。
主要應(yīng)用
- 半導(dǎo)體，光伏/太陽能，光電子，化合物半導(dǎo)體，OLED，生物醫(yī)藥，PCB封裝等領(lǐng)域的薄膜厚度, 臺(tái)階高度及坑深
樣品要求
- 不能被測試的樣品種類： 表面被嚴(yán)重污染的樣品；表面含有疏松物質(zhì)的樣品；表面有粘稠物質(zhì)的樣品；有化學(xué)毒性和生物毒性的樣品；含有未反應(yīng)單體的高分子材料。
- 樣品外形/尺寸/臺(tái)階或坑深： (1) 片狀或塊狀：尺寸大小直徑應(yīng)小于15 cm，高度應(yīng)小于25 mm; (3) 坑深及臺(tái)階高度范圍：10 nm-1200 μm; 凹坑的寬深比必須超過1;
- 送樣時(shí)注意事項(xiàng)： (1) 送樣品時(shí)，請(qǐng)附送打印的預(yù)約單； (2) 待測樣品表面事先使用高純水或有機(jī)試劑超聲清洗，或采用高純氮?dú)獯祾邩悠繁砻娴姆绞饺コ砻娓街念w?；覊m； (3) 使用帶蓋的清潔玻璃器皿盛裝剛剛清潔過的樣品； 或?qū)⑶鍧嵾^的樣品用干凈鋁箔包裹后放入清潔塑料袋。不建議使用紙袋盛裝樣品，以免紙上的纖維污染樣品表面； (4) 可以采取在待測表面的背面畫上“X”的方式標(biāo)記出測試面。樣品袋上或器皿背面請(qǐng)標(biāo)上送樣人姓名和； (5) 在預(yù)約單上，務(wù)必寫明分析測試的要求，如：待測臺(tái)階高度，或凹坑深度；盡可能提供樣品的待測結(jié)構(gòu)及其尺度范圍，以及待測結(jié)構(gòu)在樣品表面的大概位置等信息。
儀器說明
- 設(shè)備名稱：臺(tái)階儀。臺(tái)階儀屬于接觸式表面形貌測量儀器，其測量原理是：當(dāng)觸針沿被測表面輕輕滑過時(shí)，由于表面有微小的峰谷或者凹坑，觸針在滑行的同時(shí)沿測試樣品表面作上下運(yùn)動(dòng)，觸針的運(yùn)動(dòng)情況就反映了表面輪廓的情況。
