小型高頻感應(yīng)熔樣機(jī)
設(shè)備參數(shù)：
1·電源電壓：220V/2P 50Hz
2· 坩堝擺動(dòng)角度：0~90 度（可調(diào)節(jié)），
3·坩堝擺動(dòng)速率：0~20轉(zhuǎn)/分（可調(diào)節(jié)）
4· 設(shè)備總功率：10Kw；
5· 設(shè)備使用溫度：0-1300℃
6· 插座電流：2P，63A
7· 外形尺寸：約 1100×550×1250mm(L×W×H)
8· 設(shè)備總重量：約150Kg
使用條件
1.使用過(guò)程中必須保持真空環(huán)境，有利于在下次使用時(shí)加快真空化速度。2、溫度控制不得超過(guò)額定溫度。嚴(yán)禁向爐內(nèi)倒入各種液體和熔融的金屬材料，以保持爐內(nèi)清潔。
2.定期維護(hù)自控系統(tǒng)電氣連接部分的接觸是否良好，并注意加熱電源與感應(yīng)電磁線圈的連接點(diǎn)是否緊固。
3.高頻熔樣機(jī)的工作條件是否精致，不能隨意使用。主要用于以下前提條件。
(1)工作溫度在-10℃至75℃之間。
(2)周圍空氣的相對(duì)濕度不得超過(guò)85%。
(3)電爐周圍無(wú)導(dǎo)電浮塵、易燃易爆氣體和腐蝕性氣體等嚴(yán)重威脅金屬材料和絕緣層材料的導(dǎo)電浮塵、易燃易爆氣體和腐蝕性氣體。
(4)無(wú)明顯的歪斜、振動(dòng)和顛簸。
小型高頻感應(yīng)熔樣機(jī)優(yōu)勢(shì)：
· 采用高頻感應(yīng)加熱系統(tǒng)；
· XRF分析用玻璃熔片，AAS和ICP分析用溶液
· 高精度紅外測(cè)溫系統(tǒng)結(jié)合PID智能溫度控制；
· 采用集操作和顯示于一體的觸摸屏人機(jī)界面；
· PLC智能控制系統(tǒng)，可預(yù)存儲(chǔ)5套常用制樣程序；
· 按預(yù)氧化→加熱熔化→擺動(dòng)搖勻→澆鑄成型→冷卻過(guò)程設(shè)定好熔樣程序，即可一鍵啟動(dòng)自動(dòng)執(zhí)行完成樣。
· 熔融過(guò)程自動(dòng)擺動(dòng)功能；
· 有單堝單模，雙堝雙模，四堝四模等多種種可選，制樣速度為：5-10min/批。
· 對(duì)鉑金坩堝和成型模具設(shè)計(jì)有耐熱陶瓷保護(hù)架，延長(zhǎng)使用時(shí)間。
· 熔化室內(nèi)設(shè)計(jì)有專門抽風(fēng)系統(tǒng)，可及時(shí)排走熔化過(guò)程中產(chǎn)生的有害氣體；
· 對(duì)不同樣品有廣泛適用性，制得的熔片均勻可靠，可滿足用戶XRF分析時(shí)對(duì)玻璃熔片的要求。
· 過(guò)壓、過(guò)流、過(guò)熱、缺水等多重安全防護(hù)。
