工業(yè)反滲透設(shè)備主要用于工業(yè)生產(chǎn)用水的純水制取,根據(jù)客戶的需求采用的不同的工藝流程來制取符合客戶生產(chǎn)用純水的標(biāo)準(zhǔn),出水電導(dǎo)率可達(dá)0.055μS/cm~10μS/cm 。適用于食品飲料工業(yè)、電子光電、化工冶金、電廠鍋爐、電鍍涂裝行業(yè);精密機械、汽車工業(yè)等行業(yè)。
工業(yè)反滲透設(shè)備是一種利用選擇性膜的選擇透過功能,以膜兩側(cè)壓力差為動力的膜分離技術(shù)。當(dāng)系統(tǒng)所加的壓力大于溶液的滲透壓時,水分子會不斷地透過膜遷移至膜的淡水側(cè),并通過收集管流至淡水出口。
君浩環(huán)保工業(yè)純水設(shè)備選用優(yōu)質(zhì)進(jìn)口復(fù)合反滲透膜,能連續(xù)去除水中絕大部分無機物和有機物,從而達(dá)到凈化的目的。
工業(yè)生產(chǎn)EDI超純水設(shè)備 工業(yè)反滲透設(shè)備
edi純水設(shè)備產(chǎn)品參數(shù)
給水:RO純水,一般水的電導(dǎo)率為4-30us/cm
PH:5.0-8.0(在此PH條件下,水硬度不能太高)
溫度:5-35℃
進(jìn)水壓力: 大為4kg/cm2(60psi)小為1.5kg/cm2(25psi)
進(jìn)水條件
反滲透RO產(chǎn)水,電導(dǎo)率1-20μs/cm,大允許電導(dǎo)率≤30μs/cm(NaCl)
pH值:7.5—9
溫度:15℃--35℃
進(jìn)水壓力(DIN):0.15—0.4MPa
濃水進(jìn)水壓力:0.10—0.3MPa
產(chǎn)水壓力(DOUT):0.05—0.25MPa
濃水出水壓力(COUT):0.02—0.2MPa
進(jìn)水硬度:<1.0ppm(以CaCO 計)(推薦0 5ppm以下)
進(jìn)水有機物:TOC<0.5ppm
進(jìn)水氧化劑:Cl2(活性)<0.03ppm,O3(臭氧)<0.02ppm
進(jìn)水重金屬離子:Fe、Mn、變價性金屬離子<0.01ppm
進(jìn)水硅:SiO2<0.5ppm
進(jìn)水總CO2:<3ppm
進(jìn)水顆粒度:<1μm
電除鹽EDI模塊采用模塊化技術(shù),通過不同數(shù)量的模塊搭配,可以滿足各種水處理要求。為發(fā)電、半導(dǎo)體、微電子、化工以及生物制藥等行業(yè)的高純水的生產(chǎn)提供了有力的保障。
具有CE、UL、和CSA標(biāo)識,歐洲FDA衛(wèi)生認(rèn)證通過ISO900L:2000認(rèn)證能夠穩(wěn)定生產(chǎn)出電阻率高達(dá)18MΩ.cm的超純水。
EDI高純水設(shè)備特性
1、PLC全自動控制,無需人工值守,節(jié)省人力成本
2、EDI高純水設(shè)備能連續(xù)生產(chǎn)出符合用戶要求的超純水,且不會因為再生而停機
3、設(shè)備出水水質(zhì)高,出水穩(wěn)定,能耗低,水利用率高,運行費用及維修成本低
4、關(guān)機時膜保護(hù)系統(tǒng)可自動沖洗膜面污染物,延長膜使用年限
5、結(jié)構(gòu)緊湊,占地小,大大節(jié)省了基建投資
工藝流程
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI超純水系統(tǒng)→微孔過濾器→用水點
工業(yè)生產(chǎn)EDI超純水設(shè)備 工業(yè)反滲透設(shè)備