氨分解制氫和純化設(shè)備
氨分解制氫設(shè)備是以催化觸媒作用下,將氣態(tài)氨加熱到600-850度,氨氣化學(xué)分解后制得含氫75%、氮25%的混合氣體。后級配套的純化設(shè)備,主要是去除混合氣體中,沒有分解的殘存氨氣和水份等,殘氨含量≤2ppm、氣體露點≥-70℃、氧≤3ppm??梢詥为氉鳛閮?yōu)質(zhì)保護(hù)氣體使用,也是制氮機(jī)純化設(shè)備還原氫氣可靠來源。氨分解制氫設(shè)備和純化產(chǎn)品特點如下:
◆ 氨分解制氫設(shè)備及純化工藝流程
液氨汽化預(yù)熱后,進(jìn)入催化劑分解爐,在一定溫度和催化劑作用下氨氣分解產(chǎn)生含氫75%、氮25%的混合氣,混合氣體經(jīng)熱交換器和冷卻器后,進(jìn)入分子篩為吸附劑的干燥器,有效脫除混合氣中殘余氨和水份。裂解化學(xué)方程式為:2NH3→3H2+N2-22080卡熱量,1公斤液氨分解可以制取氫氮混合氣2.64Nm3。對氣氛含氧量有特殊要求場合,還可以選加除氧脫氧設(shè)備。經(jīng)純化處理后,氣體中的雜質(zhì)含量均可以小于1ppm濃度。
◆ 產(chǎn)品氣技術(shù)參數(shù)
制氫和純化設(shè)備 | 氨分解設(shè)備 | 純化設(shè)備 | 加除氧器 | |
混合氣氛組成 | 75% H2、25% N2 | 75% H2、25% N2 | 75% H2、25% N2 | |
指標(biāo) | 雜質(zhì)氧 | ≤3ppm | ≤3ppm | ≤1ppm |
殘余氨 | ≤500ppm | ≤2ppm | ≤1ppm | |
露 點 | ≤-10℃ | ≤-60℃ | ≤-70℃ | |
工作壓力 | 0.05MPa |
◆ 各種氨分解制氫和純化設(shè)備
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◆ ACTFil氨分解制氫和純化設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)
型 號 | 產(chǎn)氣量 | 液氨耗量 | 工作溫度 | 催化劑種類 | 電源 | 功率 | 冷卻水 |
AD-5B/FC-5 | 5 | 2 | 600-650 | 鐵觸媒 | 220 | 5.5 | 無 |
AD-5C/FC-5 | 5 | 2 | 800-850 | 鎳觸媒 | 220 | 6 | 0.2 |
AD-10/FC-10 | 10 | 4 | 380 | 12 | 0.5 | ||
AD-20/FC-20 | 20 | 8 | 24 | 1 | |||
AD-30/FC-30 | 30 | 12 | 36 | 1.5 | |||
AD-40/FC-40 | 40 | 16 | 50 | 2 | |||
AD-50/FC-50 | 50 | 20 | 70 | 2.5 | |||
AD-60/FC-60 | 60 | 24 | 75 | 3 | |||
AD-80/FC-80 | 80 | 32 | 80 | 3.5 | |||
AD-100/FC-100 | 100 | 39 | 95 | 4 | |||
AD-150/FC-150 | 150 | 59 | 140 | 5 | |||
AD-200/FC-200 | 200 | 77 | 180 | 6 |
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