大型單晶硅清洗用超純水設(shè)備概述

　　大型單晶硅清洗用超純水設(shè)備出水電阻可達(dá)15.0-17.0M&.CM。不用更換樹脂，EDI模塊可以穩(wěn)定使用3-5年，降低耗材成本60%，多重安全保護(hù)，機(jī)箱精巧，外形美觀。全電腦控制，工作狀態(tài)顯示，全自動運(yùn)轉(zhuǎn)。雙路在線式水質(zhì)監(jiān)測系統(tǒng)，液晶數(shù)字顯示。高純度水對許多工商業(yè)工程非常重要，比如：半導(dǎo)體制造業(yè)和制藥業(yè)。以前這些工業(yè)用的純凈水是用離子交換獲得的。 然而，膜系統(tǒng)和膜處理過程作為預(yù)處理過程或離子交換系統(tǒng)的替代品越來越流行。如電除鹽過程(EDI)之類的膜系統(tǒng)可以很干凈地去除礦物質(zhì)并可以連續(xù)工作。

　　大型單晶硅清洗用超純水設(shè)備特點(diǎn)

　　1、整體化程度高，易于擴(kuò)展，增加膜數(shù)量即可增加處理量。

　　2、自動化程度高，遇故障立即自停，具有自動保護(hù)功能。

　　3、膜組件為復(fù)合膜卷制而成，表現(xiàn)出更高的溶質(zhì)分離率和透過速率。

　　4、能耗低，水利用率高，運(yùn)行成本低。

　　5、結(jié)構(gòu)合理，占地面積少。

　　6、*的膜保護(hù)系統(tǒng)，在設(shè)備關(guān)機(jī)，淡化水可自動將膜面污染物沖洗干凈，延長膜壽命。

　　7、系統(tǒng)無易損部件， 無須大量維修，運(yùn)行長期有效。

　　8、設(shè)備設(shè)計(jì)有膜清洗系統(tǒng)用阻垢系統(tǒng)。

　　大型單晶硅清洗用超純水設(shè)備主要用途

　　電子工業(yè)用水：集成電路、硅晶片、顯示管等電子元器件沖洗水。

　　制藥行業(yè)用水：制藥行業(yè)用水 　大輸液、針劑、片劑、生化制品、設(shè)備清洗等。

　　化工行業(yè)工藝用水：化工循環(huán)水、化工產(chǎn)品制造等。

　　電力行業(yè)：鍋爐補(bǔ)給水 　火力發(fā)電鍋爐、廠礦中低壓鍋爐動力系統(tǒng)等。

　　食品工業(yè)用水：飲用純凈水、飲料、啤酒、白酒、保健品等。

　　海水、苦咸水淡化：海島、艦船、海上鉆井平臺、苦咸水地區(qū)等。

　　飲用純凈水：房產(chǎn)物業(yè)、社區(qū)、企事業(yè)單位等。

　　超聲波清洗用水：電腦配件、特種材料、精密機(jī)械等要求高清潔度的超聲波清洗線。

　　電鍍行業(yè)用水：清洗工件用水，槽液用水。

　　其它工藝用水：汽車、家電涂裝、鍍膜玻璃、化裝品、精細(xì)化學(xué)品等。

　　大型單晶硅清洗用超純水設(shè)備工藝流程