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PlasmaPro 800 RIE反應離子刻蝕機

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱深圳市藍星宇電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2022/11/11 16:03:55
  • 訪問次數(shù)231
產(chǎn)品標簽:

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深圳市藍星宇電子科技有限公司,經(jīng)過十多年的紫外光專業(yè)技術沉淀,可以根據(jù)客戶特殊要求提供定制化服務,研發(fā)設計組裝:紫外臭氧清洗機(UV清洗機),準分子清洗機,等離子清洗機/去膠機等科研以及生產(chǎn)設備,擁有自主品牌及注冊商標。 同時我們代理歐美日多家高科技設備廠家高性價比產(chǎn)品, 始終堅持創(chuàng)新, 技術, 服務, 誠信的企業(yè)文化,為廣大中國及海外客戶提供的儀器設備和材料的整體解決方案。 應用領域: 半導體/微納,光電/光學, 生命科學/生物醫(yī)療等領域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶群體例如高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機構等。 半導體/微納,光電/光學 產(chǎn)品主要有: 德國ParcanNano(Nano analytik)針尖光刻機,電子束光刻機, 激光直寫光刻機,紫外光刻機,微納3D打印機,德國Sentech刻蝕機/鍍膜機及原子沉積,英國HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機,微波離子沉積機MPCVD,芬蘭Picosun原子層沉積機,電子顯微鏡, 德國Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質譜/波譜儀,美國Sonix超聲波顯微鏡, 德國耐馳Netzsch熱分析儀, 德國Optosol吸收率發(fā)射率檢測儀, 日本SEN UV清洗機/UV清洗燈,美國Jelight紫外清洗機/紫外燈管,德國Diener等離子清洗機等*技術產(chǎn)品。 生命科學/生物醫(yī)療 產(chǎn)品主要有:PCR儀,核酸質譜儀/核酸檢測儀,電子顯微鏡,紫外設備,光譜/色譜/質譜/波譜儀,生物芯片,試劑,實驗耗材等。 并可依據(jù)客戶需求,研發(fā)定制相關產(chǎn)品。我們以高性價比的優(yōu)勢為客戶提供優(yōu)質的產(chǎn)品與服務,為高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機構等客戶提供儀器設備和材料。
英國Oxford 反應離子刻蝕機PlasmaPro 800 RIE,是結構緊湊、且使用方便的直開式系統(tǒng),該系統(tǒng)為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應離子蝕刻(RIE)工藝提供了靈活的解決方案。大尺寸的晶圓平臺能夠處理量產(chǎn)級別的批量以及300mm晶圓的工藝。
PlasmaPro 800 RIE反應離子刻蝕機 產(chǎn)品信息

英國Oxford 反應離子刻蝕機PlasmaPro 800 RIE

概述:

PlasmaPro 800系列是結構緊湊、且使用方便的直開式系統(tǒng),該系統(tǒng)為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應離子蝕刻(RIE)工藝提供了靈活的解決方案。大尺寸的晶圓平臺能夠處理量產(chǎn)級別的批量以及300mm晶圓的工藝。

高性能工藝

準確的襯底溫度控制

準確的工藝控制

成熟的300mm單晶圓失效分析工藝

選項

PlasmaPro 800 PECVD

旨在生產(chǎn)高質量的均勻介質薄膜。PECVD 中的應力控制是由可選的或者混合的高/低頻等離子體源提供的, 使通過調(diào)整工藝得到具有張應力,壓應力或者低應力的沉積薄膜成為可能。

PlasmaPro 800 RIE/PE:在同一設備上結合了RIE的各向異性和 PE模式刻蝕的高選擇性。

PlasmaPro 800 RIE:成熟的干法刻蝕廣泛應用于整個工業(yè)領域。

特征:

為化合物半導體、光電子和光子學應用提供了的工藝靈活性,PlasmaPro 800 可提供:

大型下電極 - 低成本

刻蝕終點監(jiān)測 - 可靠性和可維護性俱佳

通過激光干涉儀與/或發(fā)射光譜進行終點監(jiān)測 - 增強刻蝕控制

可選擇帶有4-、8-或12-條氣路的氣柜 - 可提供靈活的工藝和工藝氣體,可以與主機分離,放置在遠端服務區(qū)

近距離耦合渦輪泵 - 提供*的泵送速度加快氣體的流動速度

數(shù)據(jù)記錄 - 追溯腔室的歷史狀態(tài)以及工藝條件

液體冷卻和/或電加熱電極 - 出色的電極溫度控制和穩(wěn)定性

應用:

使用我們的具有特殊配置的失效分析設備進行干法刻蝕解剖工藝 —— 具有RIE和 PE兩種模式
RIE/PE工藝涵蓋了從封裝好的芯片和裸芯片到整片300mm晶圓刻蝕
高質量的PECVD 沉積的SiNx和SiO2薄膜 ,適用于光子學、介電層鈍化和諸多其它領域
SiO2,SiNx和石英刻蝕
金屬和聚酰亞胺有機物刻蝕
用于高亮度LED生產(chǎn)的鈍化沉積
III-V族刻蝕工藝

15700106413
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