EMS 150/300是一款多功能緊湊型鍍膜系統(tǒng), 對于SEM, FESEM,TEM樣品制備及其它鍍膜應用非常理想, 直徑為165mm/300mm的腔室可容納多種需要鍍導電膜的樣品, 尤其在配套電鏡應用中提高成像質(zhì)量提供6個版本的儀器：
EMS150R S Plus – 噴金儀/離子濺射儀（真空噴鍍非氧化型金屬, Au, Pt, Pd等）
EMS150R E Plus – 噴碳儀/碳蒸鍍儀（真空噴鍍碳膜, 特別適用于EDS,EBSD）
EMS150R ES Plus–真空鍍膜儀（ 集150R S和150R E功能于一體, 結(jié)構(gòu)緊湊）
EMS150T S Plus– 高真空離子濺射儀（分子泵超高真空, 多靶材, Cr, W, Cu, Pt等）
EMS150T E Plus– 高真空碳蒸鍍儀（分子泵超高真空適用于TEM/Cs-TEM使用）
EMS150T ES Plus–高真空鍍膜儀（ 集150T S和150T E功能于一體, 結(jié)構(gòu)緊湊）
EMS300R T–超大樣品室多濺射頭鍍膜儀（ 300mm超大樣品室，3個濺射頭保證大面積均勻鍍膜效果）
150R是一款多功能緊湊型機械泵抽真空鍍膜系統(tǒng)，對于SEM樣品制備及其它鍍膜應用非常理想。直徑為165mm/6.5”的腔室可容納多種需要鍍導電膜的樣品 – 尤其用于在SEM應用中提高成像質(zhì)量。
150R S Plus
機械泵抽真空離子濺射鍍膜儀，適于給樣品鍍制不氧化金屬膜（即貴金屬膜），如金、銀、鉑和鈀。
150R E Plus
機械泵抽真空蒸發(fā)鍍碳儀，使用碳絲或碳繩為SEM樣品鍍膜。
150R ES Plus
集150R S Plus 和150R E Plus兩者的功能于一體，節(jié)省空間。這個雙重用途、結(jié)構(gòu)緊湊、機械泵抽真空的鍍膜系統(tǒng)標配有濺射插入頭和碳絲蒸發(fā)插入頭 – 可提供無與倫比的多用途鍍膜。
此外，輝光放電選項也是可用的（僅150R S Plus和150R ES Plus版本），它可實現(xiàn)樣品表面改性（如疏水表面改為親水表面）。
快速簡便：快速、易更換的鍍膜插入頭，能在同一個緊湊設計中實現(xiàn)金屬濺射、碳蒸鍍和輝光放電三者之間的快速轉(zhuǎn)換。
采用全自動觸摸屏控制,可快速輸入數(shù)據(jù)。與鍍膜處理方法及鍍膜材料相適配的鍍膜參數(shù)方案可通過觸摸按鍵實現(xiàn)預設并儲存。自動放氣控制功能確保了濺射期間的真空狀態(tài)，可提供良好的一致性和可重復性。
易使用：智能識別系統(tǒng)可自動探測安裝了何種類型的鍍膜插入頭，以便立即運行相應的鍍膜方案。可存儲多個用戶自定義的鍍膜方案 – 這對于需更改鍍膜參數(shù)實現(xiàn)不同應用的多用戶實驗室非常理想。多種樣品臺組件適用于各種尺寸和類型的樣品；所有樣品臺都帶有快速、易更換及落入式設計的特點。
功能強大、可重復鍍膜及高可靠性：可預編程的鍍膜參數(shù)及方案能確保一致且可重復的結(jié)果。需要沉積厚膜時，本系統(tǒng)提供長達60分鐘且無需破真空的濺射時間。設計*的碳蒸鍍插入頭操作簡單,具有對蒸發(fā)電流參數(shù)的控制，確保了SEM應用中一致的和可重復的碳沉積?？蛇x的膜厚監(jiān)控附件用于可重復的膜厚控制。
適配性強且用途廣：濺射、碳蒸鍍、輝光放電插入頭及多種可選件，使Q150R對于多用戶實驗室應用非常理想?？蔀R射一系列不氧化金屬，如金、銀、鉑和鈀。碳絲蒸鍍插入頭處理樣品速度非常快。也可選用碳棒蒸發(fā)。還可應用于金屬薄膜研究及電極的應用。
EMS 150R S Plus– 緊湊型機械泵濺射儀，適合非氧化金屬
EMS 150R E Plus– 緊湊型機械泵鍍碳儀
EMS 150R ES Plus–集成了離子濺射和碳蒸鍍兩種沉積功能的緊湊型機械泵鍍膜儀
新款改進
● 觸摸屏更換成便于操作的電容觸摸屏
● 固件更新，新版操作界面類似安卓系統(tǒng)，便于客戶上手
● 新的彩色LED可視狀態(tài)指示燈
● USB接口可以用于固件更新，并可將鍍膜方案文件備份/復制到USB存儲設備
● 可以通過USB端口以.csv格式導出過程日志文件，以便統(tǒng)計分析
技術(shù)參數(shù)
儀器尺寸 585mm W x 470mm D x 410mm H (打開鍍膜頭時總高 650mm)
重量 28.4kg
包裝尺寸 725mm W x 660mm D x 680mm H (36.8kg)
工作腔 硼硅酸鹽玻璃，152mm ? (內(nèi)) x 127mm H
安全鐘罩 PET材質(zhì)
顯示 145mm 320 x 240 彩色圖形TFT (Thin Film Transistor)顯示
用戶界面 直觀全圖形界面，觸摸屏控制
濺射頭 標配 57mm ?、0.1mm厚金靶（Q150R S，Q150R ES）
樣品臺 50mm ?旋轉(zhuǎn)樣品臺，帶6個15mm、10mm、6.5mm或1/8”釘形樣品座孔，旋轉(zhuǎn)速度8-20 rpm
真空
機械泵 Edwards RV3 50L/s雙程機械泵
真空測量 標配Pirani規(guī)
極限真空 2 x 10-2mbar
工作真空 3 x 10-2 mbar與5 x 10-1mbar之間
操作過程
濺射 0-80mA，濺射時間60 min
碳蒸鍍 電流脈沖：碳繩，1-60 A；1.4mm ?碳棒，1-90 A
輝光放電 0-80mA，DC+及DC-模式
其它
工作氣體 Ar氣，99.999%，N2為排放氣體（選件）
電源 90-250V ~ 50/60 Hz 1400 VA
認證 CE
