半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備概述

　　半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備符合工業(yè)需求，避免漏水之運(yùn)轉(zhuǎn)設(shè)計，極簡易之配管及回路設(shè)計需求，提供完整之電源供應(yīng)原件，可提供單一膜塊獨立電源供應(yīng)，可顯示個別膜塊所消耗之電壓及安培數(shù)，膜塊設(shè)計可承受工作壓力100psi，膜塊設(shè)計可承受工作溫度45℃(113 )，高溫專用膜塊可承受工作溫度80℃(176 )，*無需停機(jī)再生，影響制程，無需使用酸堿再生也無廢水排放。

　　半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備工作流程

　　預(yù)處理——RO裝置——中間水箱——中間水泵——EDI裝置——純水水箱——純水泵——用水點。

　　半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備優(yōu)點

　　不耗酸、堿、自動再生。

　　占地面積小，自動化程度高。

　　出水質(zhì)量高且可調(diào)整。

　　單機(jī)產(chǎn)水量：50m3/h。

　　產(chǎn)水電阻：≥15MΩ.cm(25℃)。

　　適用于電廠化水、鍋爐補(bǔ)給水、冶金、汽車工業(yè)。

　　半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備的工作原理

　　EDI系統(tǒng)主要是在直流電場的作用下，通過隔板的水中電介質(zhì)離子發(fā)生定向移動，利用交換膜對離子的選擇透過作用來對水質(zhì)進(jìn)行提純的一種科學(xué)的水處理技術(shù)。電滲析器的一對電極之間,通常由陰膜，陽膜和隔板(甲、乙)多組交替排列，構(gòu)成濃室和淡室(即陽離子可透過陽膜,陰離子可透過陰膜)。淡室水中陽離子向負(fù)極遷移透過陽膜，被濃室中的陰膜截留，水中陰離子向正極方向遷移陰膜，被濃室中的陽膜截留，這樣通過淡室的水中離子數(shù)逐漸減少，成為淡水。而濃室的水中，由于濃室的陰陽離子不斷涌進(jìn)，電介質(zhì)離子濃度不斷升高，而成為濃水，從而達(dá)到淡化,提純,濃縮或精制的目的。

　　半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域

　　1、電廠化學(xué)水處理。

　　2、電子、半導(dǎo)體、精密機(jī)械行業(yè)超純水。

　　3、食品、飲料、飲用水的制備。

　　4、小型純水站，團(tuán)體飲用純水。

　　5、精細(xì)化工、精尖學(xué)科用水。

　　6、其他行業(yè)所需的高純水制備。

　　7、制藥工業(yè)工藝用水。

　　8、海水、苦咸水的淡化。