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壓電晶體生長(zhǎng)爐
產(chǎn)品簡(jiǎn)介： 本設(shè)備是公司新研發(fā)的用于鉭酸鋰（LT）和鈮酸鋰（LN）等材料的壓電晶體生長(zhǎng)的設(shè)備。主要用于CZ法單晶的生產(chǎn)，全自動(dòng)控制系統(tǒng)可提高晶體品質(zhì)和一致性，過程可控穩(wěn)定性高，減少人工干預(yù)、工作強(qiáng)度和成本。 |
壓電晶體生長(zhǎng)爐 技術(shù)參數(shù)
技術(shù)參數(shù)：
爐體內(nèi)腔尺寸：φ800mm×1000mm
外形尺寸：1000mm×1000mm×2500mm
長(zhǎng)晶尺寸：6英寸
籽晶軸提拉行程：450mm
提拉運(yùn)動(dòng)最小線速度：0.01mm/hr
快速提拉速度：200mm/min
籽晶軸轉(zhuǎn)動(dòng)速度：0.1～100r/min
稱重系統(tǒng)：稱重傳感器量程20kg；信號(hào)放大器顯示精度0.01g
控制軟件：提拉法等徑控制軟件，采用上稱重方法來控制晶體直徑，晶體形狀可隨意設(shè)計(jì)，PID及運(yùn)動(dòng)參數(shù)可隨晶體形狀過渡變化，屏幕上數(shù)據(jù)交叉顯示提供生長(zhǎng)過程中數(shù)據(jù)綜合分析工具。
加熱電源：中頻感應(yīng)加熱
加熱輸出功率：30KW
真空系統(tǒng)：機(jī)械泵抽真空
水冷系統(tǒng)：爐腔、加熱線圈流量控制循環(huán)冷卻。
