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高光譜成像儀

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱深圳維爾克斯光電有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2022/9/12 16:42:14
  • 訪問次數(shù)528
產(chǎn)品標(biāo)簽:

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深圳維爾克斯光電有限公司是的進(jìn)口光電代理商,代理的激光、光電、光機(jī)械類產(chǎn)品,應(yīng)用涵蓋物理與光學(xué)、化學(xué)、材料、生命科學(xué)等領(lǐng)域。我們與國內(nèi)各大高校、研究所、激光設(shè)備公司和及精密儀器公司保持著緊密的聯(lián)系,提供針對不同應(yīng)用的專業(yè)技術(shù)支持。 維爾克斯光電在衍射光學(xué)、微光學(xué)、太赫茲元件、、光束分析儀、太陽光模擬器、顯微鏡載物臺、紅外熱像儀、電控平移臺、紅外探測器、光學(xué)儀器等領(lǐng)域具有多年的產(chǎn)品和技術(shù)積累,能夠?yàn)橛脩籼峁└鞣N高性價(jià)比的解決方案。
型號GRAND-EOS的高光譜成像儀可用于全局成像,結(jié)合了高光譜顯微鏡系統(tǒng)和高光譜寬視場成像平臺,可以提供微觀模式和宏觀模式,波長范圍覆蓋VNIR(400-1000nm)和SWIR(900-1700nm)。
高光譜成像儀 產(chǎn)品信息

超高光譜成像儀,波長范圍覆蓋400-2500nm


GRAND-EOS高光譜成像儀內(nèi)部集成了S-EOS 1.7,S-EOS 2.5V-EOS凝視型高光譜相機(jī),自身就是一個(gè)小型測試平臺。

GRAND-EOS高光譜成像儀是由Photon ect公司研發(fā)的一個(gè)全局成像的超快高光譜成像儀,它將成像技術(shù)與光譜技術(shù)相結(jié)合,結(jié)合了高光譜顯微鏡系統(tǒng)和高光譜寬視場成像平臺,可以提供微觀模式和宏觀模式,波長范圍覆蓋VNIR400-1000nm)和SWIR900-1700nm)。

由于搭載了Photon ect的:布拉格光柵濾光技術(shù),可以篩選光的波段,并且提供高通過量,高效率的非偏振波長的光,利用這個(gè)濾光技術(shù),可以大視場成像,對用戶想要的任意波長范圍進(jìn)行掃描,利用一個(gè)百萬像素的傳感器,可以獲得樣品表面數(shù)百萬個(gè)位置點(diǎn)上的光譜信息GRAND-EOS專為反射,透射和發(fā)光成像而設(shè)計(jì),非常適合基礎(chǔ)研究和工業(yè)應(yīng)用。



GRAND-EOS超高光譜成像儀產(chǎn)品規(guī)格參數(shù):

型號

V-EOS

S-EOS1.7

S-EOS 2.5

光譜范圍

400 - 1000nm

900 - 1620 nm

900 - 2500 nm

光譜分辨(FWHM

< 2 nm

< 4 nm

< 5 nm

照相機(jī)

sCMOS

InGaAs相機(jī)

(ZephIR1.7 or Alizé™1.7)

MCT 相機(jī)
(ZephIR2.5)

波長精度

FWHM/8

光譜通道

連續(xù)可調(diào)

入口狹縫尺寸

每個(gè)波長無狹縫/全視野測量

曝光控制

物理規(guī)范™ 軟件控制

標(biāo)準(zhǔn)視場(可定制)

160毫米x 160毫米,20毫米x 20毫米,可根據(jù)要求提供其他視野

預(yù)處理

圖像穩(wěn)定,空間濾波,統(tǒng)計(jì)工具,光譜提取,數(shù)據(jù)歸一化,光譜校正

高光譜數(shù)據(jù)格式

HDF5, FITS

軟件

PHySpecWindows10-64

尺寸

150 cm x 85 cm x 82 cm

重量

80kg

電源要求

120 VAC / 12 A / 60 Hz,230 VAC / 12 A / 50 Hz

可選附件

光度校準(zhǔn),激光激發(fā),白光照明,微成像模式:5倍,10倍。



GRAND-EOS超高光譜成像儀開啟了以下領(lǐng)域的全新可能

-光伏特性

-偽造品檢驗(yàn)

-法醫(yī)研究

-食品和植物分類


GRAND-EOS超高光譜成像儀特點(diǎn)

-光譜通道連續(xù)可調(diào)

-從400 nm1620 nm有高靈敏度

-非分散技術(shù)

-高性能CCD

-電動對焦

-控制和分析軟件




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