英國(guó)Emitech全自動(dòng)磁控離子濺射儀K550X具有旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)，它也可傾斜，非常適合各種樣品使用。預(yù)選擇參數(shù)及全自動(dòng)控制使得精確鍍層及重復(fù)厚度沉積更為方便。磁電管靶使用低電壓，可提高效率，K550X能得到非常精細(xì)的顆粒，由于是冷濺射，所以無需冷卻靶面或樣品臺(tái)。

腔室直徑為165 mm(6英寸)，非常方便裝載及移走樣品。

儀器裝有60mm直徑、0.1mm厚的金靶（或用戶選擇），提供的性能價(jià)格比?？蛇x靶材包括金/鈀，鉑/鈀和鉑。

功能集中在儀器面板上及即插即用電子學(xué)設(shè)計(jì)，的“up-time”，這些用戶友好設(shè)計(jì)滿足了不同學(xué)科的用戶需求。

濺射參數(shù)可被預(yù)先設(shè)置，包括氣體放氣針閥，此閥為電磁閥，一旦設(shè)置，它就不需要再調(diào)節(jié)。濺射頭互鎖，系統(tǒng)可容易選配K250鍍碳附件。本儀器為全自動(dòng)操作，可控制獨(dú)立的真空泵。

英國(guó)Emitech全自動(dòng)磁控離子濺射儀K550X的特點(diǎn)

1、全自動(dòng)控制

2、低電壓濺射

3、高分辨率精細(xì)涂層

(金顆粒可達(dá)2 nm)

4、具有傾斜裝置的特殊旋轉(zhuǎn)臺(tái)

5、均勻厚度沉積

(掃描電鏡一般厚度為20nm 或200埃)

6、165 mm(6英寸)腔室

優(yōu)點(diǎn)：

● 易操作

● 無需冷卻樣品臺(tái)

● 精確的再次涂層

● 適合各種樣品

● 膜厚度重復(fù)性好

● 容易裝載或卸載樣品

● 可預(yù)設(shè)沉積厚度

英國(guó)Emitech全自動(dòng)磁控離子濺射儀K550X的技術(shù)參數(shù)

1、儀器尺寸:450mm W x 350mm D x 175mm H 重量:18公斤

2、工作腔室:硼硅酸鹽玻璃 165mm Dia x 125mm H

3、安全鐘罩:聚碳酸酯

4、靶：60mm 直徑 x 0.1mm 厚(金作為標(biāo)準(zhǔn)靶面)

5、樣品臺(tái)直徑為50mm，靶面距離40mm,具有傾斜裝置的旋轉(zhuǎn)臺(tái)

6、真空范圍:ATM-1x10-2 mbar

7、濺射電流:0-50mA

8、沉積速率:0-25nm/分

9、濺射定時(shí): 0-4 分鐘

10、預(yù)設(shè)置針閥:控制氬

11、電源:230 伏 50Hz