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Hysitron TI 980 納米壓痕儀

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  • 公司名稱(chēng)深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
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  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2022/9/11 14:51:55
  • 訪(fǎng)問(wèn)次數(shù)217
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司,經(jīng)過(guò)十多年的紫外光專(zhuān)業(yè)技術(shù)沉淀,可以根據(jù)客戶(hù)特殊要求提供定制化服務(wù),研發(fā)設(shè)計(jì)組裝:紫外臭氧清洗機(jī)(UV清洗機(jī)),準(zhǔn)分子清洗機(jī),等離子清洗機(jī)/去膠機(jī)等科研以及生產(chǎn)設(shè)備,擁有自主品牌及注冊(cè)商標(biāo)。 同時(shí)我們代理歐美日多家高科技設(shè)備廠家高性?xún)r(jià)比產(chǎn)品, 始終堅(jiān)持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務(wù), 誠(chéng)信的企業(yè)文化,為廣大中國(guó)及海外客戶(hù)提供的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。 應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué), 生命科學(xué)/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶(hù)群體例如高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等。 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué) 產(chǎn)品主要有: 德國(guó)ParcanNano(Nano analytik)針尖光刻機(jī),電子束光刻機(jī), 激光直寫(xiě)光刻機(jī),紫外光刻機(jī),微納3D打印機(jī),德國(guó)Sentech刻蝕機(jī)/鍍膜機(jī)及原子沉積,英國(guó)HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機(jī),微波離子沉積機(jī)MPCVD,芬蘭Picosun原子層沉積機(jī),電子顯微鏡, 德國(guó)Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國(guó)THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,美國(guó)Sonix超聲波顯微鏡, 德國(guó)耐馳Netzsch熱分析儀, 德國(guó)Optosol吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀, 日本SEN UV清洗機(jī)/UV清洗燈,美國(guó)Jelight紫外清洗機(jī)/紫外燈管,德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品。 生命科學(xué)/生物醫(yī)療 產(chǎn)品主要有:PCR儀,核酸質(zhì)譜儀/核酸檢測(cè)儀,電子顯微鏡,紫外設(shè)備,光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,生物芯片,試劑,實(shí)驗(yàn)耗材等。 并可依據(jù)客戶(hù)需求,研發(fā)定制相關(guān)產(chǎn)品。我們以高性?xún)r(jià)比的優(yōu)勢(shì)為客戶(hù)提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù),為高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等客戶(hù)提供儀器設(shè)備和材料。
BRUKER Hysitron TI 980 TriboIndenter 加速納米力學(xué)研究進(jìn)入更高階段,同時(shí)具有的性能、靈活性、可信度、實(shí)用性和速度?;诤K紕?chuàng)幾十年的技術(shù)創(chuàng)新,它為納米力學(xué)表征帶來(lái)了高水平的性能、功能和易用性。TI 980達(dá)到了一臺(tái)優(yōu)異納米力學(xué)測(cè)試儀器所需的所有要求,實(shí)現(xiàn)了控制上突出的*性和高效性,試驗(yàn)上的靈活度與可實(shí)現(xiàn)性,測(cè)量穩(wěn)定性,以及系統(tǒng)設(shè)計(jì)的模塊化。
Hysitron TI 980 納米壓痕儀 產(chǎn)品信息

Hysitron TI 980 TriboIndenter

加速納米力學(xué)研究進(jìn)入更高階段

布魯克的海思創(chuàng)TI 980 TriboIndenter同時(shí)具有的性能、靈活性、可信度、實(shí)用性和速度。基于海思創(chuàng)幾十年的技術(shù)創(chuàng)新,它為納米力學(xué)表征帶來(lái)了高水平的性能、功能和易用性。TI 980達(dá)到了一臺(tái)優(yōu)異納米力學(xué)測(cè)試儀器所需的所有要求,實(shí)現(xiàn)了控制上突出的性和高效性,試驗(yàn)上的靈活度與可實(shí)現(xiàn)性,測(cè)量穩(wěn)定性,以及系統(tǒng)設(shè)計(jì)的模塊化。

的Performech® II控制模塊和電子設(shè)計(jì)

。 性能的高速閉環(huán)控制

。 業(yè)界的噪音控制

。集成的帶輸入/輸出信號(hào)的多參數(shù)控制

。 五百倍于前代產(chǎn)品的力學(xué)測(cè)試速度

多維度測(cè)量耦合

。充分優(yōu)化各個(gè)傳感器的特質(zhì)適用不同測(cè)量需要,通過(guò)多維傳感器的選擇實(shí)現(xiàn)不同測(cè)量間的無(wú)縫耦合

。 多種有效的測(cè)試模塊配置,包括納米/微米壓痕、納米劃痕、納米摩擦磨損、高分辨原位掃描探針顯微鏡成像、動(dòng)態(tài)納米壓痕和高速力學(xué)性能成像等

豐富的系統(tǒng)控制和數(shù)據(jù)分析軟件

。TriboScan(TM) 10提供了革命性的控制功能,包括XPM超快納米壓痕,SPM+原位掃描探針顯微鏡成像,動(dòng)態(tài)表面搜索,全自動(dòng)系統(tǒng)校準(zhǔn)和創(chuàng)新的測(cè)試程序

。Tribo iQ (TM)提供了強(qiáng)大的數(shù)據(jù)處理、分析和畫(huà)圖功能,并具有可編程數(shù)據(jù)分析模塊和自動(dòng)生成的定制測(cè)試報(bào)告功能。

極大的靈活性和具有前瞻性的表征潛質(zhì)

。多級(jí)別的防護(hù)罩提供了環(huán)境隔絕能力,并具有用于將來(lái)的升級(jí)可擴(kuò)展接口

。樣品臺(tái)提供了機(jī)械、磁性和真空固定方式,適用于各種樣品

保持處于材料研究和開(kāi)發(fā)的

海思創(chuàng)從1992年起就在范圍內(nèi)處于納米力學(xué)和納米摩擦學(xué)表征的位置。通過(guò)與研究人員和工程師的持續(xù)合作,布魯克理解您的需求,通過(guò)創(chuàng)新的技術(shù)幫助您解決當(dāng)下和將來(lái)面臨的材料挑戰(zhàn)。海思創(chuàng)TI 980 TriboIndenter是這些努力的集大成者。它提供了的性能,能滿(mǎn)足您持續(xù)更新的材料表征需求。

簡(jiǎn)潔、高速的自動(dòng)控制

系統(tǒng)自動(dòng)校正使得每次測(cè)試都無(wú)懈可擊

。 針尖面積函數(shù)自動(dòng)校正

。 傳感器自動(dòng)校正

。壓針和光學(xué)系統(tǒng)校正

自動(dòng)測(cè)試程序

??焖?、多樣品自動(dòng)測(cè)試功能實(shí)現(xiàn)高通量表征

。 智能化自動(dòng)程序確保用戶(hù)選擇正確的針尖

。 高分辨多尺度成像結(jié)合全尺寸樣品的光學(xué)搜索,

極大簡(jiǎn)化測(cè)試流程

的噪音水平,實(shí)現(xiàn)真正納米尺度表征

。從微米到幾個(gè)納米的多尺度測(cè)量

。 納牛級(jí)別的力噪音水平和小于90%原子直徑的位移測(cè)量能力,實(shí)現(xiàn)幾乎任何材料的定量表征

。系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)超過(guò)6個(gè)數(shù)量級(jí)的力測(cè)量和10個(gè)數(shù)量級(jí)的位移測(cè)量

。力和位移噪音水平保證在客戶(hù)現(xiàn)場(chǎng)安裝時(shí)實(shí)現(xiàn)

的反饋控制速率

精確控制測(cè)試過(guò)程

。實(shí)現(xiàn)精度、可信度和重復(fù)性的真正定量納米力學(xué)和納米摩擦學(xué)表征

。 特殊的力和位移反饋控制方法用于海思創(chuàng)的傳感器-專(zhuān)門(mén)針對(duì)海思創(chuàng)傳感器物理特性開(kāi)發(fā)的力與位移反饋控制算法

。每隔0.013毫秒實(shí)現(xiàn)一次完整反饋控制,使得系統(tǒng)能測(cè)量快速瞬態(tài)過(guò)程,并對(duì)其作出反饋,真正實(shí)現(xiàn)用戶(hù)的測(cè)試意圖-每隔0.013毫秒實(shí)現(xiàn)一次完整的感知-分析-控制的循環(huán),使得系統(tǒng)能對(duì)瞬態(tài)過(guò)程進(jìn)行測(cè)量與反饋,以此重現(xiàn)用戶(hù)定義的測(cè)試方式

在納米力學(xué)測(cè)試上一步

nanoDMA III:動(dòng)態(tài)納米壓痕

布魯克的nanoDMA III是強(qiáng)大的動(dòng)態(tài)納米壓痕技術(shù)。它提供了彈/塑性和粘彈性隨著壓入深度、頻率和時(shí)間的變化關(guān)系。

。 全面表征各種材料的普適性方法,從較軟的聚合物到硬質(zhì)鍍層都能適用

。 集成直流和交流調(diào)制使得從初始接觸點(diǎn)開(kāi)始就能實(shí)現(xiàn)納米尺度動(dòng)態(tài)性能的可靠、定量表征

。 原位參考頻率法校正溫漂使得長(zhǎng)時(shí)間測(cè)試的精度大大提高

XPM:快速力學(xué)性能成像

不論是測(cè)量分辨率和精度,還是測(cè)量速度,XPM都是納米力學(xué)測(cè)試的業(yè)界新。有了XPM,原來(lái)可能需要一整年才能獲得的數(shù)據(jù),現(xiàn)在只需要一個(gè)下午就能獲得。這些的性能是通過(guò)以下三個(gè)業(yè)界的技術(shù)實(shí)現(xiàn)的。1)高帶寬靜電激勵(lì)傳感器;2)快速控制和數(shù)據(jù)采集電子系統(tǒng);3)自上而下的原位掃描探針顯微鏡成像。這些技術(shù)聯(lián)用能實(shí)現(xiàn)每秒六次納米壓痕測(cè)試,從而獲得全面的定量納米力學(xué)性能圖譜以及性能分布的統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)。

更少時(shí)間測(cè)量更多參數(shù)

。 超高速定量力學(xué)性能測(cè)量(每秒6次測(cè)量)

。 快速、高分辨空間硬度和模量分布統(tǒng)計(jì)

。 一分鐘內(nèi)可靠完成針尖函數(shù)自動(dòng)校正

。 比傳統(tǒng)納米壓痕測(cè)試快500倍的數(shù)據(jù)采集速率

。 xSol 環(huán)境控制腔及載臺(tái),可實(shí)現(xiàn)環(huán)境條件下高通量測(cè)量

SPM+實(shí)現(xiàn)納米力學(xué)測(cè)試前后的準(zhǔn)確原位成像

布魯克的掃描納米壓痕技術(shù)使用同一根探針實(shí)現(xiàn)樣品表面形貌成像和納米壓痕測(cè)試。這種方法實(shí)現(xiàn)了的定位精度,并且可以在納米壓痕測(cè)試后立即對(duì)樣品塑性形變進(jìn)行成像,加快測(cè)試速度。

。 高定位精度(+/-10nm)

。 可以從64x64到4096x4096范圍內(nèi)設(shè)定掃描分辨率

。 可以對(duì)各種高長(zhǎng)寬比的特征形貌進(jìn)行不同X-Y分辨率成像

。 業(yè)界的納米力學(xué)性能成像分辨率和調(diào)色板

。 可以和摩擦力成像,nanoDMA III,nanoECR和xSol環(huán)境控制腔等聯(lián)用

強(qiáng)大的系統(tǒng)控制和分析

TriboScan 10:強(qiáng)大的測(cè)試靈活性提供了無(wú)限的測(cè)試可能性

。 將布魯克納米壓痕全套測(cè)試技術(shù)集成到一個(gè)直觀的軟件內(nèi)

。 基于標(biāo)簽頁(yè)架構(gòu)的軟件設(shè)計(jì)使得用戶(hù)可以方便的使用軟件功能

。靈活的測(cè)試過(guò)程分段定義方法提供了適用于所有測(cè)試模式的優(yōu)異控制

TriboIQ: 可編程數(shù)據(jù)分析程序

。易用的操作界面,從簡(jiǎn)單到復(fù)雜的可定制數(shù)據(jù)分析包

。 直觀的數(shù)據(jù)組織和分析流程,簡(jiǎn)單點(diǎn)擊即可生成數(shù)據(jù)報(bào)告

。 直觀可自定義的數(shù)據(jù)處理和分析模塊

。 開(kāi)放式架構(gòu)使得多用戶(hù)合作更加容易

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