PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。
產(chǎn)品用途：
溫度范圍寬；濺射區(qū)域長；整管可調(diào)；精致小巧，性價比高，可實(shí)現(xiàn)快速升降溫，是實(shí)驗(yàn)室生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復(fù)合薄膜等的理想選擇，也可作為擴(kuò)展等離子清洗刻蝕使用。
產(chǎn)品參數(shù)：
| 產(chǎn)品名稱 | 1200℃PECVD系統(tǒng) | |
| 產(chǎn)品型號 | KJ-PECVD-1200-50*300-F3 | |
| 加熱系統(tǒng) | 顯示 | LED |
| 溫度 | 1200℃ | |
| 長期工作溫度 | ≤1100℃ | |
| 升溫速率 | 0~15℃/min (max. 20℃/min) | |
| 溫區(qū) | 300mm | |
| 加熱元件 | 鉬棒 | |
| 熱電偶 | K type | |
| 溫度均勻性 | ±1℃ | |
| 爐管尺寸 | 60 x 1200mm | |
| 材質(zhì)：氧化鋁 | ||
| 溫度控制 | 通過可控硅功率控制進(jìn)行PID自動控制 | |
| 加熱過程 | 30步可編程 | |
| 電壓 | 220V，50 Hz，單相 3KW | |
| 工作壓力 | 0.02MPa | |
| 真空系統(tǒng) | 旋片泵 包括 KF25 適配器、真空泵組波紋管和帶輪子的移動柜。 | 冷態(tài)極限真空10Pa。 |
| 真空計(jì) | Inficon 數(shù)顯真空計(jì) | |
| 真空法蘭 | 帶閥門和針頭的不銹鋼真空法蘭 | |
| 質(zhì)量流量計(jì) | 流量范圍 | CO2（流量范圍：0-200 sccm CH4（流量范圍：0-200 sccm） N2 流量范圍（流量范圍：0-200 sccm） |
| 準(zhǔn)確性 | ±1.5 % F.S. | |
| 重復(fù)精度 | ±1.5 % F.S. | |
| 響應(yīng)時間 | ≦10sec | |
| 工作壓差范圍 | 0.1~0.5MPa | |
| 耐壓性 | 3MPa | |
| 溫度系數(shù) | 零：≤±0.2% F.S./℃； 跨度：≤±0.2% F.S./℃ | |
| 工作環(huán)境溫度 | 5~45℃ | |
| 輸入信號 | 0 V ~ +5.00 V | |
| 輸出信號 | 0 V ~ +5.00 V | |
| 等離子射頻發(fā)生器 | 輸出功率：0 -300W可調(diào)，±1%穩(wěn)定性 射頻頻率：13.56 MHz ±0.005% 穩(wěn)定性 反射功率： 120W 電源穩(wěn)定性指標(biāo)：±0.1% 匹配：自動 噪音：<50 分貝。 整體效率：≧70% | |
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