馳誠CCZK-SF磁控濺射鍍膜設備，具備成膜速率高，基片溫度低，膜的粘附性好，可實現(xiàn)大面積鍍膜相對于傳統(tǒng)蒸發(fā)鍍膜設備，馳誠磁控濺射鍍膜設備可獲得優(yōu)秀的膜層致密性，均勻性和結合力采用直流或中頻磁控濺射電源，滿足不同層次客戶需求。
高速低溫濺射技術，極大的擴展了馳誠CCZK-SF磁控設備的應用范圍，對無法受熱或耐熱力產(chǎn)品提供優(yōu)質(zhì)的濺射鍍膜解決方案采用馳誠工藝制造，精益求精，通過歐盟CE和ISO質(zhì)量管理體系認證；
CCZK-SF磁控濺射鍍膜設備
腔體結構：立式前開門，臥式前開門。
材質(zhì)用料：腔體材質(zhì)為SUS304不銹鋼或碳鋼
真空系統(tǒng)：擴散泵（可選分子泵）+羅茨泵+機械泵+維持泵（另有深冷泵系統(tǒng)可供選擇）
濺射靶材：中心圓柱靶，平面靶，孿生靶等
磁控電源：可配備直流或中頻磁控濺射電源
轉(zhuǎn)動系統(tǒng)：變頻調(diào)速，公自轉(zhuǎn)結合，可根據(jù)客戶產(chǎn)品和要求設計
膜層結構：單層膜、多層膜
氣體控制：氣體流量控制儀集成觸控操作控制
人機界面：PLC智能控制+MI觸摸屏
操作方式：邏輯全自動方式、半自動方式、手動方式
智能控制：PLC智能控制+HMI全彩人機觸控界面，實現(xiàn)全自動控制
報警及保護：異常情況進行報警，并執(zhí)行相應保護措施。
其他技術參數(shù)：
極限真空：5.0×10-4Pa
抽氣速率：5.0*10-2≤5min
水壓流速≥0.2Mpa 3m3/h；水溫≤25℃；氣壓：0.4-0.8Mpa；
備注：
一般規(guī)格：
Φ1000mm*H1200mm，Φ1400mm*H1600mm,Φ1200mm*H1500mm，
Φ1800mm*H2000mm, Φ2000mm*H2200mm
真空室尺寸或設備配置可按客戶產(chǎn)品及特殊工藝要求訂做
高級裝飾膜層鍍膜，塑膠制品（塑料餐具、高級開關面板等），五金產(chǎn)品（鏡架、汽車輪轂等），水晶玻璃，手機殼，電子產(chǎn)品等產(chǎn)品鍍膜。
