良喬環(huán)保高純水設(shè)備（EDI)高純水設(shè)備

  EDI高純水設(shè)備作為制取超純水的設(shè)備，作為反滲透設(shè)備后的二次除鹽設(shè)備，可以制取出高達(dá)10-18.2MΩ.CM。因此廣泛用于微電子工業(yè)，半導(dǎo)體工業(yè)，發(fā)電工業(yè)，制藥行業(yè)和實(shí)驗(yàn)室。也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產(chǎn)用水、發(fā)電廠(chǎng)的鍋爐的補(bǔ)給水，以及其它應(yīng)用高純水。

高純水設(shè)備的本質(zhì)及原理

   連續(xù)電除鹽（EDI，Electrodeionization或CDI，continuouselectrode ionization),是利用混和離子交換樹(shù)脂吸附給水中的陰陽(yáng)離子，同時(shí)這些被吸附的離子又在直流電壓的作用下，分別透過(guò)陰陽(yáng)離子交換膜而被除去的過(guò)程。這一過(guò)程離子交換樹(shù)脂是電連續(xù)再生的，因此不需要使用酸和堿對(duì)之再生。這一新技術(shù)可以替代傳統(tǒng)的離子交換裝置，生產(chǎn)出高達(dá)18M-CM的超純水。又可以比較清晰地描述如下：EDI是利用陰、陽(yáng)離子膜，采用對(duì)稱(chēng)堆放的形式，在陰、陽(yáng)離子膜中間夾著陰、陽(yáng)離子樹(shù)脂，分別在直流電壓的作用下，進(jìn)行陰、陽(yáng)離子交換。而同時(shí)在電壓梯度的作用下，水會(huì)發(fā)生電解產(chǎn)生大量H+和OH-，這些H+和OH-對(duì)離子膜中間的陰、陽(yáng)離子不斷地進(jìn)行了再生。由于EDI不停進(jìn)行交換——再生，使得純水度越來(lái)越高，所以，輕而易舉的產(chǎn)生了高純度的高純水。

EDI高純水設(shè)備性能優(yōu)勢(shì)

 1、可連續(xù)，穩(wěn)定地生產(chǎn)高品質(zhì)純水，無(wú)需因樹(shù)脂再生而停機(jī)； 　　

 2、無(wú)污染物排放，既環(huán)保又省去了廢液處理的投資； 　　

 3、設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，節(jié)省空間，同時(shí)還具有節(jié)能優(yōu)點(diǎn)； 　　

 4、出廠(chǎng)完成裝置調(diào)試，現(xiàn)場(chǎng)工作量小，上崗培訓(xùn)容易； 　　

 5、日常保養(yǎng)，操作簡(jiǎn)單，勞動(dòng)強(qiáng)度低。 　　

 6、脫鹽率大于99.9%，效率遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于兩級(jí)反滲透和單純的離子交換

系統(tǒng)特點(diǎn)

 EDI設(shè)備的優(yōu)點(diǎn)： 　　

    1、連續(xù)產(chǎn)出超純水，出水水質(zhì)具有的穩(wěn)定度，以高產(chǎn)率產(chǎn)生超純水(產(chǎn)率可以高達(dá)95%); 　　

   2、 模塊化生產(chǎn)，實(shí)現(xiàn)設(shè)備的全自動(dòng)控制;

   3、 不需要酸堿再生，不會(huì)因?yàn)樵偕C(jī); 　　

   4、 不需要酸堿稀釋運(yùn)輸設(shè)施和酸堿儲(chǔ)備; 　　

   5、 設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，體積小，占地面積少; 　　

   6、 使用安全可靠，避免人工接觸酸堿; 　　

   7、 節(jié)省了反沖和清洗用水，無(wú)再生污水，不須污水處理設(shè)備; 　　  

   8、 安裝簡(jiǎn)單方便，安裝費(fèi)用低廉;減低設(shè)備的運(yùn)行成本及維修成本; 　　

   9、 設(shè)備運(yùn)行操作簡(jiǎn)單，勞動(dòng)強(qiáng)度較低。

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