抗粘 劑氣相涂布烘箱,抗粘劑 氣相沉積系統(tǒng)的用途:
在納米壓印工藝中,要求作為壓印膠的聚合物和基底材料之間能有較強的附著能力,這樣才能保證在退模過程中不會與基底脫離而導致結構被破壞;同時聚合物和模板之間應有盡可能低的界面能,以防止在退模過程中因聚合物與模板之間發(fā)生粘連影響壓印質量用然可以通過選擇合適的材料滿足這樣的要求。因此更多的是采用在模板上修飾抗粘層的辦法。
抗粘劑氣相成底膜烘箱,抗粘劑氣相沉積系統(tǒng)主要用于納米壓印光刻(NIL)應用,防粘涂層的制備,可用于光刻工藝中HMDS增粘劑涂膠;以及功率半導體,LED,MEMS,半導體分立器件等硅烷沉積涂膠工藝。
抗粘 劑氣相涂布烘箱,抗粘劑 氣相沉積系統(tǒng)技術性能:
容量:1-12寸均可,300*300*300,450*450*450,600*600*600(mm)
硅烷添加劑:1-2種
內(nèi)箱體材質:316L不銹鋼
氣體輸入:1個(氮氣)
工作溫度范圍:80-200/300°C
腔室壓力控制:1tor~100tor
硅烷添加量:2 – 100mL
工藝選擇:可同時設定5個工藝
正常運行時間:> 95%
涂膠原理:氣相沉積法
真空泵:干泵
抗粘劑氣相成底膜烘箱,抗粘劑氣相沉積系統(tǒng)主要用于在納米壓印工藝中,要求作為壓印膠的聚合物和基底材料之間能有較強的附著能力,這樣才能保證在退模過程中不會與基底脫離而導致結構被破壞;同時聚合物和模板之間應有盡可能低的界面能,以防止在退模過程中因聚合物與模板之間發(fā)生粘連影響壓印質量用然可以通過選擇合適的材料滿足這樣的要求。因此更多的是采用在模板上修飾抗粘層的辦法。