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主要特點(diǎn)
基于廣大科研界對實(shí)現(xiàn)大面積單層石墨烯薄膜在工業(yè)銅箔基底上卷對卷宏量制備的需求,我公司開發(fā)出一種新的卷對卷連續(xù)快速生長石墨烯薄膜的方法，設(shè)計(jì)并研制了可達(dá)到中試水平的石墨烯卷對卷化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)，通過對石墨烯成核與生長的調(diào)控實(shí)現(xiàn)高品質(zhì)石墨烯薄膜生長；此款設(shè)備是快速冷卻卷對卷等離子體增強(qiáng)CVD連續(xù)生長爐，它由高溫生長腔體，三路質(zhì)量流量計(jì)氣路系統(tǒng)，真空機(jī)組，RF射頻電源模塊，石英管，冷卻裝置，收放銅箔的密封裝置，自動(dòng)化控制系統(tǒng)組成，兩端分別安裝有進(jìn)料進(jìn)氣真空腔室和出料排氣真空腔室（即收放銅箔的密封裝置），收放銅箔的密封裝置內(nèi)分別對應(yīng)安裝有放卷滾輪和收卷滾輪，所輸出料排氣腔體與爐體之間安裝有冷卻裝置。相對于現(xiàn)有技術(shù)具有快速冷卻、連續(xù)生長的優(yōu)點(diǎn)，可以進(jìn)行大面積、高質(zhì)量石墨烯的規(guī)?；L。
技術(shù)參數(shù)
額定功率 | KW | 3 |
額定電壓 | V | AC 208-240V 50/60 Hz |
Z高溫度 | ℃ | 1200 |
持續(xù)工作溫度 | ℃ | ≤1100℃ |
推薦升溫速率 | ℃/min | ≤30℃/min |
爐管尺寸 | mm | 高純石英管Φ100×1400mm（可使用基底銅箔寬度≤80mm）（其他尺寸可定制） |
加熱區(qū)長度 | mm | 400 |
恒溫區(qū)長度 | mm | 200 |
控溫方式 | 人機(jī)界面加PLC控制，10寸液晶屏控制，數(shù)字工控儀表雙控，采用工業(yè)智能控溫儀表和軟件實(shí)現(xiàn)雙控，采用模糊型PID控制。 | |
無紙記錄 | 1、內(nèi)置存儲(chǔ)記錄運(yùn)行工藝數(shù)據(jù)，外接USB接口，可以電腦連接一鍵拷貝數(shù)據(jù)。 2、系統(tǒng)采用自動(dòng)化工藝流程，設(shè)定好工藝一鍵操作。降低人為因素，工藝可靠性可以達(dá)到99.9%。 | |
控溫精度 | ℃ | ±1 |
加熱元件 | 進(jìn)口電阻絲 | |
真空進(jìn)料腔 | 進(jìn)料進(jìn)氣真空腔室與出料排氣腔體外殼以亞克力為主要材料，電機(jī)帶動(dòng)銅箔在密閉生長條件下運(yùn)動(dòng)，并通過冷卻裝置后收緊成卷。 | |
氣路系統(tǒng)配制 | 內(nèi)部裝有高精度質(zhì)量流量計(jì)可準(zhǔn)確的控制氣體流量；設(shè)有靜態(tài)混氣室，有助于氣體充分混合，按要求配比。 | |
射頻電源配制 | RF射頻電源等離子輔助模塊，大大降低了石墨烯的生長溫度，是銅箔的機(jī)械強(qiáng)度適合連續(xù)收放 | |
真空系統(tǒng)配制 | 真空機(jī)組內(nèi)含真空泵，數(shù)字真空計(jì)以及相關(guān)的連接調(diào)節(jié)閥，可提供一個(gè)可控的低壓環(huán)境。 | |
認(rèn)證標(biāo)準(zhǔn) | CE | |
尺寸（長X寬X高） | mm | 2280*600*1280 |
凈重 | Kg | 約450 |
