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廣電計量檢測集團股份有限公司

光學電子束蒸發(fā)式鍍膜機

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱湖南宇晶機器股份有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2022/7/22 14:09:01
  • 訪問次數(shù)802
產(chǎn)品標簽:

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湖南宇晶機器股份有限公司(以下簡稱“公司”)是于1998年成立的科技型企業(yè),專業(yè)從事多線切割機、研磨拋光機、磨削機、鍍膜機、精密成型數(shù)控機床等硬脆材料加工機床的研發(fā)、設計、生產(chǎn)與銷售,是5G產(chǎn)業(yè)鏈中的智能裝備核心制造商,同時也是市場5G智能終端防護玻璃拋光機制造商?! 」井a(chǎn)品主要用于手機觸摸屏及后蓋、太陽能光伏硅片、磁性材料、藍寶石、碳化硅、視窗玻璃、LED 半導體照明、壓電水晶及陶瓷等硬脆材料的精密加工,廣泛應用于消費電子、汽車工業(yè)、新材料、儀器儀表等領域。在國內(nèi)多線切割機、研磨拋光機、磨削機及鍍膜機生產(chǎn)、研發(fā)領域走在了行業(yè)的前沿,同時,在國內(nèi)精密數(shù)控機床設備研發(fā)生產(chǎn)領域頗有建樹。  湖南宇晶機器股份有限公司系湖南省,“精密高效數(shù)控多線研磨切片核心技術及系列裝備項目”于2010年獲得中華人民共和國“科學技術進步獎二等獎”,“電子器件芯片加工專用多線切割裝備系列化研制與產(chǎn)業(yè)化”項目于2014年獲得湖南省人民政府“科學進步一等獎”。公司同時注重產(chǎn)學研與創(chuàng)新開拓,已累計擁有國家173項,其中發(fā)明105項。自主研發(fā)的電子束蒸發(fā)式真空鍍膜機性能具有國際水平,與國外同類產(chǎn)品相比,性能相當,價格實惠,可實現(xiàn)韓國進口替代;自主研發(fā)的多線切割機技術水平目前也已實現(xiàn)與國際水平齊頭并進,在國內(nèi)市場上可實現(xiàn)瑞士進口替代。憑借著可靠的產(chǎn)品質(zhì)量、合理的價格及完善的售后服務體系,公司目前在國內(nèi)外已經(jīng)擁有600多家用戶,其中包括藍思科技、比亞迪、潮州三環(huán)等大型上市企業(yè),同時也服務于華為與蘋果等5G供應鏈上的大型國際企業(yè)?! 」灸壳罢e極推進政府引導、企業(yè)主導的省電子產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟的成立。通過產(chǎn)業(yè)鏈垂直整合和創(chuàng)新資源優(yōu)化組合,加快形成涵蓋技術、人才、平臺及國際合作高度融合的協(xié)同創(chuàng)新系統(tǒng)和完善的技術開發(fā)產(chǎn)業(yè)鏈。未來,我們將發(fā)揮企業(yè)優(yōu)勢及擔當,聯(lián)盟建成高水平的產(chǎn)學研用合作平臺,充分發(fā)揮聯(lián)盟的帶動作用,腳踏實地的做強產(chǎn)業(yè)鏈,做大產(chǎn)業(yè)增量,打造跨界協(xié)同的創(chuàng)新生態(tài)產(chǎn)業(yè)系統(tǒng),更好地為政府決策、產(chǎn)業(yè)發(fā)展提供支撐?!?
鍍膜機
總功率:120KW尺寸:W5600×D6300×H3170mm機器重量:15(t)設備專門用于IT 制造業(yè)結(jié)構件真空鍍膜加工,各系統(tǒng)單元和總體構成滿足光學和功能薄膜生產(chǎn)工藝要求,適用AR膜、NCVM顏色膜、金屬裝飾膜、金屬功能膜、AF功能膜等。The equipment is specially used for vacuum coating processing of struc......
光學電子束蒸發(fā)式鍍膜機 產(chǎn)品信息

 

 

 

  • 設備專門用于IT 制造業(yè)結(jié)構件真空踱膜加工,各系統(tǒng)單元和總體構成滿足光學和功能薄膜生產(chǎn)工藝要求,適用AR膜、NCVM顏色膜、金屬裝飾膜、金屬功能膜、AF功能膜等。
  • 該渡膜機鍍膜機采用立式箱體,前置室門上裝有觀察窗,箱內(nèi)安裝轉(zhuǎn)架驅(qū)動,爐內(nèi)安裝烘烤系統(tǒng),后置排氣法蘭連接高真空泵;

1) 前級真空:由旋片泵、羅茨泵構成;

2) 高真空:擴散泵、超低溫冷凝水捕集泵(Polycold) ,真空室和擴散泵冷阱;

3) 抽氣系統(tǒng):由各級泵、管道和閥門,在系統(tǒng)的控制下完成啟動、粗抽精抽、待命和維持流程。

 

 

 

 

項目規(guī)格
成膜系統(tǒng)
1)電子槍,10KW,電子束偏轉(zhuǎn)角270度;
2)終端霍爾型離子源,3KW。
3)雙舟阻抗式蒸發(fā)源(共5KW),用于鍍制 AF膜層。
工作模式
離子清洗、 電子束蒸發(fā),石英晶體薄膜厚度控制器監(jiān)控膜厚并自動判停。
工藝流程
裝夾-抽真空-離子清洗-電子槍蒸踱-阻抗式蒸發(fā)AF- 進氣、 出爐。
功率
總功率 120KW,平均功率60KW
設備外尺寸及總重
1)主框架及控制柜,不開門 W5600×D6300×H3170,開門 W5600×D8500×H3170;
2)粗抽泵組及粗抽管占地:W2000×D1500;
3)主框架外部必要的操作和維護維護空間:水平方向外延伸 800mm;垂直向上延伸 400mm。
4)總重:15噸

 

15700106413
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