用途概述:
工作室配置雙層通用振蕩平臺(tái),又可改為單層滿足大規(guī)格三角燒瓶高度.
技術(shù)參數(shù):
品名prefix = o ns = "urn:schemas-microsoft-com:office:office" | 恒溫溫培養(yǎng)振蕩器 | 全溫培養(yǎng)振蕩器 | ||
型號(hào) | ZDP-150 | ZDP-250 | HZP-150 | HZP-250 |
電源電壓 | 220V. 50Hz | |||
旋轉(zhuǎn)頻率 | 30~280rpm | |||
擺振幅度 | φ 28mm | |||
擺板尺寸 | 370×370mm×2層 | 440×440mm ×2層 | 370×370mm ×2層 | 440×440mm×2 層 |
標(biāo)準(zhǔn)配置 | 100ml×6個(gè) 150ml×6個(gè) 250ml×6個(gè) | 150ml×6個(gè) 250ml×6 個(gè) 500ml× 6個(gè) | 100ml×6個(gè) 150ml×6 個(gè) 250ml ×6個(gè) | 150ml×6個(gè) 250ml×6個(gè) 500ml×6個(gè) |
容量 | 100ml×28個(gè)或250ml×28 個(gè)或500ml×9個(gè)或1000ml×5 個(gè) | 100ml×44 個(gè)或250ml ×44個(gè)或500ml×14個(gè)或1000ml×9 個(gè) | 100ML*28個(gè)或250ML*28個(gè)或500ML*9個(gè)或 | 100ml×44個(gè)或250ml×44個(gè)或500ml×14個(gè)或1000ml×9個(gè) |
控溫范圍 | RT+5~50 ℃ | 5~50 ℃ | ||
控溫精度 | ± 0.1 ℃ | |||
溫度波動(dòng) | ± 0.5 ℃ | |||
消耗功率 | 500W | 580W | 700W | 900W |