特點
· 低壓等離子系統(tǒng),用于不同材料表面的處理
· 配置自動/手動模式,實現(xiàn)控制高機(jī)能
· 10.5L腔體可處理多種樣品
· 適合于研究院、高校、研發(fā)中心使用
· 8” Wafer去膠清洗
技術(shù)規(guī)格:
型號 | ATTO | ATTO PCCE | |
控制系統(tǒng) | 手動控制 | PCCE 控制系統(tǒng) | |
工藝氣路 | 雙路氣體 | ||
工藝氣體 | O2,Ar,N2,CO2,H2,Air等 | ||
單體導(dǎo)入 | H2O等單體(選配) | ||
流量計 | 針閥流量計 | MFC流量計 | |
真空 腔體 | 材質(zhì) | 高硼硅玻璃腔體,蓋子門帶觀察窗(石英,鉸鏈門選配) | |
內(nèi)尺寸(Dia.×D) | 211×300mm | ||
容積 | 10.5L | ||
電極 | 360度外置環(huán)繞電極 | ||
發(fā)生器*
| 40KHz 0~200 W 13.56MHz 0~50 W 13.56MHz 0~300 W | ||
真空壓力計 | 指針式壓力計(選購) | 皮拉尼數(shù)字式壓力計 | |
計時器 | 旋鈕式(選購) | 數(shù)字式 | |
托盤 | 高硼硅玻璃(石英選配)W200xD260xH5mm | ||
外形尺寸(WXDxH)mm | 525x450xD450 | ||
電源 | AC220V 50Hz 10A | ||
真空泵 | 排氣速度8m3/H |